[发明专利]利用OCT系统测量人工培植珍珠层厚度的方法在审
| 申请号： | 201810164188.1 | 申请日： | 2018-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN108387180A | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 潘朗星;张志洪;苏文杰 | 申请（专利权）人： | 香港生产力促进局 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 武君 |
| 地址： | 中国香港九*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及对珍珠层厚度进行测量的技术领域，具体公开了一种利用OCT系统测量人工培植珍珠层厚度的方法，其包括以下步骤：步骤一，在时域OCT系统下，取得反射光的亮度值以显示断层图像，取得珍珠层的横断面图像；步骤二，根据横断面图像，估算珍珠层内部和外部的轨迹；步骤三，根据珍珠层内部和外部的轨迹，计算珍珠层的厚度。本发明采用OCT技术对珍珠层厚度进行测量，可以准确地检测珍珠珠面的圆浑度、珍珠层的均匀性等；对珍珠不会造成损耗，保证了测量的安全性；检测的精度高，满足国家标准的检测方式达到的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 珍珠层 测量 横断面图像 检测 珍珠 培植 断层图像 反射光 均匀性 时域 外部 估算 保证 | ||
【主权项】：
1.一种利用OCT系统测量人工培植珍珠层厚度的方法，其特征在于，其包括以下步骤：步骤一，在时域OCT系统下，取得反射光的亮度值以显示断层图像，取得珍珠层的横断面图像；步骤二，根据横断面图像，估算珍珠层内部和外部的轨迹；步骤三，根据珍珠层内部和外部的轨迹，计算珍珠层的厚度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港生产力促进局，未经香港生产力促进局许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810164188.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：手机钢化弧面膜的厚度检验方法及设备
- 下一篇：一种T型电梯导轨固定孔检测系统
