[发明专利]利用OCT系统测量人工培植珍珠层厚度的方法在审
| 申请号： | 201810164188.1 | 申请日： | 2018-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN108387180A | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 潘朗星;张志洪;苏文杰 | 申请（专利权）人： | 香港生产力促进局 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人： | 武君 |
| 地址： | 中国香港九*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 珍珠层 测量 横断面图像 检测 珍珠 培植 断层图像 反射光 均匀性 时域 外部 估算 保证 | ||
【权利要求书】：
1.一种利用OCT系统测量人工培植珍珠层厚度的方法，其特征在于，其包括以下步骤：
步骤一，在时域OCT系统下，取得反射光的亮度值以显示断层图像，取得珍珠层的横断面图像；
步骤二，根据横断面图像，估算珍珠层内部和外部的轨迹；
步骤三，根据珍珠层内部和外部的轨迹，计算珍珠层的厚度。
2.如权利要求1所述的利用OCT系统测量人工培植珍珠层厚度的方法，其特征在于，步骤二包括如下步骤：
假设珍珠为球体，使用方程（1）计算珍珠层内部轨迹，
（1）
方程（1）中，和为横断面图像内最内围取样的数据点，为珍珠球体的垂直面内的圆心，为珍珠层内部曲率半径，为珍珠层内部轨迹；
使用方程（2）计算珍珠层外部轨迹，
（2）
方程（2）中，Xo 和Yo为横断面图像内最外围取样的数据点，为珍珠球体的垂直面外的圆心，为珍珠层外部曲率半径，为珍珠层外部轨迹。
3.如权利要求1所述的利用OCT系统测量人工培植珍珠层厚度的方法，其特征在于，步骤三包括如下步骤：
使用方程（3）计算珍珠层的厚度，
(3)
方程(3)中，珍珠层外部轨迹分为n个点，每一个点选取最短往珍珠层内部路径，珍珠层的厚度t为最短往珍珠层内部路径总和后的平均值。
4.如权利要求3所述的利用OCT系统测量人工培植珍珠层厚度的方法，其特征在于，珍珠层外部轨迹分为25个点。
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