[发明专利]在质谱分析中使用碰撞气体作为离子源的方法在审
| 申请号： | 201810155439.X | 申请日： | 2018-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN108469464A | 公开（公告）日： | 2018-08-31 |
| 发明（设计）人： | J·施韦特斯;H·韦尔斯;J·刘易斯 | 申请（专利权）人： | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/62 | 分类号： | G01N27/62 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈洁;姬利永 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种质谱分析方法，包括以下步骤：从离子源产生离子束；将所述离子束导入到碰撞池中；通过所述碰撞池上的气体入口将电中性的分析物气体或反应气体引入到所述碰撞池中；借助于所述分析物气体或反应气体与所述离子束之间的碰撞来使所述分析物气体或反应气体在所述碰撞池中电离；将来自所述电离的分析物气体或反应气体的离子从所述碰撞池发射到质量分析仪中；以及对所发射的所述电离的分析物或反应气体的离子进行质量分析。所述方法能够应用在同位素比质谱分析中以测定在所述气体与样本离子之间的质量偏移反应中所使用的反应气体的同位素丰度或同位素比，从而测定所述样本离子的校正同位素丰度或比。 | ||
| 搜索关键词： | 反应气体 分析物气体 离子束 电离 同位素丰度 样本离子 离子源 离子 同位素比质谱 质量分析仪 碰撞气体 气体入口 同位素比 质量分析 质量偏移 质谱分析 发射 电中性 分析物 谱分析 校正 种质 引入 应用 分析 | ||
【主权项】：
1.一种质谱分析的方法，所述方法包括以下步骤：a.从ICP离子源产生离子束；b.将所述离子束导入到碰撞池中；c.通过所述碰撞池上的气体入口将电中性的分析物气体引入到所述碰撞池中；d.在所述碰撞池中借助于所述分析物气体与所述离子束之间的碰撞从所述分析物气体产生离子；e.将产生的离子从所述碰撞池发射到质谱分析仪中；以及f.对所发射的所述电离的分析物气体的离子进行质量分析，其包含在质量分析仪中测定所述离子的同位素丰度或同位素比。
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