[发明专利]在质谱分析中使用碰撞气体作为离子源的方法

权利要求书

1.一种质谱分析的方法，所述方法包括以下步骤：

a.从ICP离子源产生离子束；

b.将所述离子束导入到碰撞池中；

c.通过所述碰撞池上的气体入口将电中性的分析物气体引入到所述碰撞池中；

d.在所述碰撞池中借助于所述分析物气体与所述离子束之间的碰撞从所述分析物气体产生离子；

e.将产生的离子从所述碰撞池发射到质谱分析仪中；以及

f.对所发射的所述电离的分析物气体的离子进行质量分析，其包含在质量分析仪中测定所述离子的同位素丰度或同位素比。

2.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述离子束大致包括等离子体产生气体的离子。

3.根据前一权利要求所述的方法，其中所述等离子体产生气体包括选自氩气、氖气、氦气、氮气以及氧气的物质。

4.根据权利要求1所述的方法，进一步包括将包括目标元素的溶液或气体引入到所述等离子体中，由此产生所述目标元素的离子，其中所述离子束大致包括所述目标元素的离子。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述离子束大致包括元素离子。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述离子束大致包括质量过滤的单一元素物质的元素离子。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，进一步包括使用定位在所述离子源与所述碰撞池之间的滤质器对进入所述碰撞池的所述离子束(m/z)的离子进行质量选择。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述滤质器是四极滤质器。

9.根据权利要求7所述的方法，其中质量选择步骤包括设置约2amu或更小，且优选地约1amu或更小，且更优选约0.7amu的质量窗口。

10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中接纳到所述碰撞池中的所述离子束的能量在0eV到250eV范围内，且优选地在10eV到200eV范围内。

11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述离子束的所述能量可控制。

12.根据至少一项前述权利要求所述的方法，包括调节所述离子束的所述能量以便使所述分析物气体的至少一部分碎裂以形成所述分析物气体的至少一种电离原子或分子碎片，将所述形成的电离原子或分子碎片发射到所述质量分析仪且对所述碎片进行质量分析。

13.根据前一权利要求所述的方法，包括调节所述离子束的所述能量以促成所述分析物气体的所需电离碎片的形成。

14.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其中至少一种分析物气体包括待进行质量分析的至少一种有机化合物。

15.根据前一权利要求所述的方法，其中所述至少一种有机化合物包括元素碳、氢以及氧、氮、硫、卤素和磷中的任选地至少一个。

16.根据前一权利要求所述的方法，其中所述至少一种有机化合物选自由以下组成的群：烃、被取代的烃、蛋白质、碳水化合物、脂类以及核酸。

17.根据至少一项前述权利要求所述的方法，其中所述至少一种分析物气体包括在分离同位素比实验中用于填充所述碰撞池以与从所述离子源引入到所述碰撞池中的样本离子反应的反应气体。

18.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述至少一种分析物气体包括选自氦气、氢气、氧气、氮气、氨气、甲烷、乙烷、丙烷、异丁烷、正丁烷、二氧化碳、氧化氮、二氧化氮、氧化亚氮、二硼烷以及二氧化硫的物质。