[发明专利]薄膜沉积装置

摘要

根据本发明的一实施例的薄膜沉积装置可以包括气体喷射单元，所述气体喷射单元包括沿第一方向对齐布置而向基板喷射互不相同的沉积气体的第一喷射部及第二喷射部，所述第一喷射部包括：第一喷射模块，喷射第一气体；以及第二喷射模块，布置于所述第一喷射模块的所述第一方向上的两侧面中的至少一面，并喷射第二气体，且所述第一喷射模块包括：第一气体管，供应所述第一气体；以及第一等离子体生成电极，布置于所述第一气体管下方，使所述第一气体贯通而使所述第一气体向所述基板喷射，且所述第二喷射模块包括：喷射主体，在内部布置有收容所述第二气体的空间；以及多个喷射喷嘴，布置于所述喷射主体的下侧，并喷射位于所述空间内的第二气体。

主权项

1.一种薄膜沉积装置，其中，包括：气体喷射单元，包括沿第一方向对齐布置而向基板喷射互不相同的沉积气体的第一喷射部及第二喷射部，其中，所述第一喷射部包括：第一喷射模块，喷射第一气体；以及第二喷射模块，布置于所述第一喷射模块的所述第一方向上的两侧面中的至少一面，并喷射第二气体，所述第一喷射模块包括：第一气体管，供应所述第一气体；以及第一等离子体生成电极，布置于所述第一气体管下方，使所述第一气体贯通而使所述第一气体向所述基板喷射，所述第二喷射模块包括：喷射主体，在内部布置有收容所述第二气体的空间；以及多个喷射喷嘴，布置于所述喷射主体的下方，并喷射位于所述空间内的所述第二气体。