[发明专利]用于静电放电(ESD)保护的装置和方法在审

专利信息
申请号: 201810151203.9 申请日: 2018-02-13
公开(公告)号: CN108511434A 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 赖大伟;曾韦智 申请(专利权)人: 恩智浦有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 荷兰埃因霍温高科*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明描述静电放电(ESD)保护装置和操作ESD保护装置的方法的实施例。在一个实施例中,ESD保护装置包括:第一双极装置,其连接到第一节点;第二双极装置,其连接到所述第一双极装置且连接到第二节点;以及金属氧化物半导体(MOS)装置,其连接到所述第一节点和所述第二节点且连接到所述第一双极装置和所述第二双极装置,并且被配置成响应于在所述第一节点与所述第二节点之间接收的ESD脉冲而对电流进行分流。所述第一双极装置、所述第二双极装置和所述MOS装置形成于深阱结构上。还描述了其它实施例。
搜索关键词: 双极 静电放电 金属氧化物半导体 保护装置 深阱结构 分流 响应 配置
【主权项】:
1.一种静电放电(ESD)保护装置,其特征在于,所述ESD保护装置包括:第一双极装置,其连接到第一节点;第二双极装置,其连接到所述第一双极装置且连接到第二节点;以及金属氧化物半导体(MOS)装置,其连接到所述第一节点和所述第二节点且连接到所述第一双极装置和所述第二双极装置,并且被配置成响应于在所述第一节点与所述第二节点之间接收的ESD脉冲而对电流进行分流,其中所述第一双极装置、所述第二双极装置和所述MOS装置形成于深阱结构上。
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