[发明专利]一种相移掩模板、阵列基板、其制备方法及显示装置

摘要

本发明公开了一种相移掩模板、阵列基板、其制备方法及显示装置，其中由于在相移掩模板中，由于在第一遮光部的两侧设置有的补偿遮光部，因此，可以利用补偿遮光部来降低第一遮光部两侧的曝光强度，从而避免曝光时在第一遮光部对应的区域出现过曝光的问题。并且将补偿遮光部的宽度设置为小于曝光机的分辨率，由于曝光机的分辨率不足，因此补偿遮光部不能被曝光出来，从而保证补偿遮光部对应的区域的光刻胶不会残留，即保证补偿遮光部对应的区域不形成图形。

主权项

1.一种相移掩模板，其特征在于，包括基板、位于所述基板上的第一遮光部，以及位于所述第一遮光部两侧的补偿遮光部；所述补偿遮光部的宽度小于所述采用所述相移掩模板进行曝光的曝光机的分辨率；所述补偿遮光部与所述第一遮光部之间具有间隙，且所述间隙宽度在预设范围内。