[发明专利]接合设备及其控制方法有效
申请号: | 201810127206.9 | 申请日: | 2018-02-08 |
公开(公告)号: | CN108511381B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
发明(设计)人: | 郑显权;郑之训;金圣凡 | 申请(专利权)人: | 韩美半导体株式会社 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 韩国仁*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开一种接合设备及其控制方法。接合设备包括:接合头,用以单独吸附切割的裸片;驱动器,在垂直方向上移动接合头并将其传送到X‑Y平面上的位置;接合基板,其上安装有被接合头吸附的裸片,接合头包括:接合部件,真空吸附裸片;第一气动压力部件,通过选择性地向其施加气动压力和取消气动压力的施加向接合部件供应缓冲动力,其容积根据压力可变;第二气动压力部件,被连续施加气动压力,在将接合头传送到X‑Y平面上的位置的同时,保持施加到第一和第二气动压力部件的气动压力,且当接合头垂直向下移动时,在接合头与接合基板的上部隔开预定高度的状态下,施加到第一气动压力部件的气动压力移除,由接合部件吸附的裸片安装在接合基板上。 | ||
搜索关键词: | 接合 设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
1.一种接合设备,所述接合设备包括:接合头,所述接合头用以单独地吸附切割的裸片;驱动器,所述驱动器用以在垂直方向上移动所述接合头,并将所述接合头传送到X‑Y平面上的位置;和接合基板,在所述接合基板上安装有被所述接合头吸附的裸片,其中所述接合头包括:接合部件,所述接合部件用以真空吸附所述裸片;第一气动压力部件,所述第一气动压力部件用以通过选择性地向所述第一气动压力部件施加气动压力和取消所述气动压力的施加而向所述接合部件供应缓冲动力,其中所述第一气动压力部件的容积根据压力是可变的;和第二气动压力部件,所述第二气动压力部件被连续施加气动压力,其中在将所述接合头传送到所述X‑Y平面上的位置的同时,保持施加到所述第一气动压力部件和所述第二气动压力部件的气动压力,并且当所述接合头垂直向下移动时,在所述接合头与所述接合基板的上部隔开预定高度的状态下,施加到所述第一气动压力部件的气动压力被移除,并且由所述接合部件吸附的裸片被安装在所述接合基板上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造