[发明专利]一种类金刚石镀膜方法在审
| 申请号： | 201810108215.3 | 申请日： | 2018-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN108330443A | 公开（公告）日： | 2018-07-27 |
| 发明（设计）人： | 王三胜 | 申请（专利权）人： | 北京鼎臣世纪超导科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/46 |
| 代理公司： | 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人： | 姜海荣 |
| 地址： | 100000 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种类金刚石镀膜方法，其镀膜步骤包括：提供一衬底，将其清洗后放入真空腔室内，将真空腔抽真空，然后通入氩气，打开辅源对衬底进行离子束清洗；然后以石墨为靶材，打开主源，对石墨靶材进行清洗；最后调整好主源和辅源的能量参数，打开挡板在衬底上镀一层类金刚石薄膜。通过本发明制造的类金刚石具有高附着力并且本发明操作简单便捷。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 金刚石镀膜 真空腔 主源 清洗 类金刚石薄膜 离子束清洗 挡板 氩气 镀膜步骤 高附着力 类金刚石 能量参数 石墨靶材 石墨 抽真空 靶材 放入 室内 制造 | ||
【主权项】：
1.一种类金刚石镀膜方法，其特征在于，包括以下步骤：S101、提供待镀底材(1)，将待镀底材(1)清洗后放入真空腔室内；S102、将真空腔抽真空，然后通入氩气，打开辅源(2)对待镀底材(1)进行离子束清洗；S103、提供石墨靶材(3)，打开主源(4)对石墨靶材(3)进行离子束清洗；S104、石墨靶材(3)清洗完成后，调整主源(4)和辅源(2)离子束能量与束流的参数，在待镀底材(1)上镀上一层类金刚石薄膜(5)。
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