[发明专利]一种蒸镀装置及其蒸镀方法在审
| 申请号： | 201810097681.6 | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN108251795A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 徐健;刘耀阳 | 申请（专利权）人： | 上海天马微电子有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 王刚;龚敏 |
| 地址： | 201201 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种蒸镀装置及其蒸镀方法，涉及蒸镀技术领域，用于消除掩膜版上的褶皱。其中，蒸镀装置包括可调节磁铁阵列和掩膜版，所述可调节磁铁阵列包括m个磁铁块，至少一个所述磁铁块的磁化方向可调节，以使所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力Fx，用于消除所述掩膜版在第二方向上延伸的褶皱，使所述掩膜版表面平整；调节所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第三方向上分力Fz的大小，用于抵消重力；m≥1，m为正整数。上述蒸镀装置用于膜层的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 可调节 磁铁阵列 蒸镀装置 蒸镀 褶皱 磁力 磁铁块 分力 表面平整 磁化方向 正整数 膜层 制备 抵消 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括可调节磁铁阵列和掩膜版，所述可调节磁铁阵列包括m个磁铁块，至少一个所述磁铁块的磁化方向可调节，以使所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第一方向上具有分力Fx，用于消除所述掩膜版在第二方向上延伸的褶皱，使所述掩膜版表面平整；调节所述可调节磁铁阵列对所述掩膜版产生的磁力在第三方向上分力Fz的大小，用于抵消重力；m≥1，m为正整数。
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