[发明专利]铜铟硫/硫化镉/二硫化钼纳米片光电极的制备及应用有效
申请号: | 201810093800.0 | 申请日: | 2018-01-31 |
公开(公告)号: | CN108315757B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 马德琨;柴圆圆;余文缘;黄少铭 | 申请(专利权)人: | 温州大学 |
主分类号: | C25B3/04 | 分类号: | C25B3/04;C25B11/06 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 325000 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种铜铟硫/硫化镉/二硫化钼纳米片光电极的制备及应用,制备方法为先采用水热合成方法合成得到CuInS2纳米片光电极,然后通过水浴沉积的方法构筑得到CuInS2/CdS异质结光电极,再采用水热的方法将MoS2负载到CuInS2/CdS异质结光电极的表面,得到最终产物CuInS2/CdS/MoS2纳米片光电极。制备得到的CuInS2/CdS/MoS2纳米片可作为光电极光电还原对硝基苯胺。本发明的制备方法绿色、环保,适用于大规模生产,制备得到的产物在可见光照射下,不加入牺牲剂的条件下,加上一定的电压即可高效率的催化还原对硝基苯胺,制备对苯二胺,具有反应速度快,转化率高等优点,具有很好的使用价值和应用前景。 | ||
搜索关键词: | 制备 光电极 纳米片 二硫化钼纳米片 对硝基苯胺 硫化镉 铜铟硫 异质结 应用 反应速度快 可见光照射 催化还原 对苯二胺 水热合成 最终产物 电还原 高效率 牺牲剂 水热 水浴 沉积 合成 构筑 环保 | ||
【主权项】:
1.铜铟硫/硫化镉/二硫化钼纳米片光电极的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1采用水热合成方法合成得到CuInS2纳米片光电极;S2通过水浴沉积的方法构筑得到CuInS2/CdS异质结光电极;S3采用水热的方法将MoS2负载到CuInS2/CdS异质结光电极的表面,得到最终产物CuInS2/CdS/MoS2纳米片光电极:3.1)将四硫代钼酸铵加入DMF中超声溶解得到DMF溶液,然后将步骤S2中得到的CuInS2/CdS异质结光电极放入所述DMF溶液中,然后往其中加入水合肼,并转移至聚四氟乙烯内衬的高压釜中;3.2)200℃条件下反应6小时,反应结束后,待反应釜冷却至室温,从中取出固体物,用无水乙醇和高纯水反复交替淋洗三次,60℃下烘干,得到CuInS2/CdS/MoS2纳米片光电极。
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