[发明专利]用于内线转移CCD的引线-遮光结构

摘要

本发明公开了一种用于内线转移CCD的引线‑遮光结构，包括多晶硅转移栅、回留层、遮光金属层、平坦化层和金属总线层；多晶硅转移栅形成在衬底上；回留层覆盖在多晶硅转移栅表面，回留层上设置有与多晶硅转移栅对应的接触孔，遮光金属层覆盖在回留层表面并将所述接触孔填充；平坦化层覆盖在遮光金属层表面，平坦化层上设置有连接孔；金属总线层层叠在平坦化层的上侧面上，金属总线层将连接孔填充，遮光金属层通过连接孔与金属总线层电连接。本发明的有益技术效果是：提出了一种用于内线转移CCD的引线‑遮光结构，该结构可以起到较好的遮光效果，同时，还能使遮光金属层起到电连接作用，改善器件的工作频率。

主权项

1.一种用于内线转移CCD的引线‑遮光结构，其特征在于：所述引线‑遮光结构包括多晶硅转移栅(1)、回留层(2)、遮光金属层(3)、平坦化层(4)和金属总线层(5)；所述多晶硅转移栅(1)形成在衬底上；所述回留层(2)覆盖在多晶硅转移栅(1)表面，回留层(2)上设置有接触孔(3‑1)，接触孔(3‑1)的位置与多晶硅转移栅(1)的上端面对应；所述遮光金属层(3)覆盖在回留层(2)表面并将所述接触孔(3‑1)填充；所述平坦化层(4)覆盖在遮光金属层(3)表面，平坦化层(4)上设置有连接孔；所述金属总线层(5)层叠在平坦化层(4)的上侧面上，金属总线层(5)将所述连接孔填充，遮光金属层(3)通过连接孔与金属总线层(5)电连接。