[发明专利]一种基于FPGA的灰度及二值图像膨胀腐蚀处理方法有效
| 申请号： | 201810061135.7 | 申请日： | 2018-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN108460784B | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 卞洪飞 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T7/155 | 分类号： | G06T7/155;G06T1/60 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人： | 奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基于FPGA的灰度及二值图像膨胀腐蚀处理方法，该方法包括下列顺序的步骤：设定膨胀或腐蚀，确定计算方式；根据结构元素窗口宽度进行左右边界像素复制；根据膨胀腐蚀算法对复制左右边界像素后的数据进行行内计算；使用FPGA的RAM实现一个移位寄存器缓存行内计算结果；当缓存行内计算结果达到一个结构元素窗口高度时，同时读取缓存RAM中的数据，并再次根据膨胀腐蚀算法对缓存数据行间计算后输出。本发明通过左右边界复制，膨胀和腐蚀后图像宽度与原始图像宽度一致；本发明通过行缓存和流水线，有效减少结构元素窗口覆盖的目标元素的访问次数，实现膨胀和腐蚀的加速计算。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 fpga 灰度 图像 膨胀 腐蚀 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于FPGA的灰度及二值图像膨胀腐蚀处理方法，其特征在于：该方法包括下列顺序的步骤：（a）设定膨胀或腐蚀，确定计算方式；（b）根据结构元素窗口宽度进行左右边界像素复制；（c）根据膨胀腐蚀算法对复制左右边界像素后的数据进行行内计算；（d）使用FPGA的RAM实现一个移位寄存器缓存行内计算结果；（e）当缓存行内计算结果达到一个结构元素窗口高度时，同时读取缓存RAM中的数据，并再次根据膨胀腐蚀算法对缓存数据行间计算后输出。
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