[发明专利]一种基于FPGA的灰度及二值图像膨胀腐蚀处理方法有效

专利信息
申请号: 201810061135.7 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108460784B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 卞洪飞 申请(专利权)人: 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
主分类号: G06T7/155 分类号: G06T7/155;G06T1/60
代理公司: 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 代理人: 奚华保
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 fpga 灰度 图像 膨胀 腐蚀 处理 方法
【权利要求书】:

1.一种基于FPGA的灰度及二值图像膨胀腐蚀处理方法,其特征在于:该方法包括下列顺序的步骤:

(a)设定膨胀或腐蚀,确定计算方式;

(b)根据结构元素窗口宽度进行左右边界像素复制;

(c)根据膨胀腐蚀算法对复制左右边界像素后的数据进行行内计算;

(d)使用FPGA的RAM实现一个移位寄存器缓存行内计算结果;

(e)当缓存行内计算结果达到一个结构元素窗口高度时,同时读取缓存RAM中的数据,并再次根据膨胀腐蚀算法对缓存数据行间计算后输出;

在所述步骤(b)中,结构元素窗口大小为W×W的正方形,其中W为奇数;通过移位寄存器缓存完成左右边界像素复制,复制边界像素的个数等于(W - 1)/2;

在所述步骤(d)中,使用FPGA的RAM为双端口RAM,读写冲突时读优先,并配置移位寄存器作为数据缓存;使用FPGA的RAM的例化个数与结构元素行数W相同,且各RAM容量为输入图像的一行数据量。

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