[发明专利]一种基于FPGA的灰度及二值图像膨胀腐蚀处理方法有效
申请号: | 201810061135.7 | 申请日: | 2018-01-22 |
公开(公告)号: | CN108460784B | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 卞洪飞 | 申请(专利权)人: | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/155 | 分类号: | G06T7/155;G06T1/60 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 奚华保 |
地址: | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 fpga 灰度 图像 膨胀 腐蚀 处理 方法 | ||
1.一种基于FPGA的灰度及二值图像膨胀腐蚀处理方法,其特征在于:该方法包括下列顺序的步骤:
(a)设定膨胀或腐蚀,确定计算方式;
(b)根据结构元素窗口宽度进行左右边界像素复制;
(c)根据膨胀腐蚀算法对复制左右边界像素后的数据进行行内计算;
(d)使用FPGA的RAM实现一个移位寄存器缓存行内计算结果;
(e)当缓存行内计算结果达到一个结构元素窗口高度时,同时读取缓存RAM中的数据,并再次根据膨胀腐蚀算法对缓存数据行间计算后输出;
在所述步骤(b)中,结构元素窗口大小为W×W的正方形,其中W为奇数;通过移位寄存器缓存完成左右边界像素复制,复制边界像素的个数等于(W - 1)/2;
在所述步骤(d)中,使用FPGA的RAM为双端口RAM,读写冲突时读优先,并配置移位寄存器作为数据缓存;使用FPGA的RAM的例化个数与结构元素行数W相同,且各RAM容量为输入图像的一行数据量。
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