[发明专利]偏振器用保护膜、偏振器用保护膜的制造方法及偏振器用保护膜的制造装置在审

专利信息
申请号: 201810054157.0 申请日: 2018-01-19
公开(公告)号: CN108363124A 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 品川雅;秦纪明;高山侃也;中田美惠 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B1/16 分类号: G02B1/16;G02B1/14;C08J7/04;C09D5/24;C09D161/00;C09D125/18;C08L33/04
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种偏振器用保护膜、上述偏振器用保护膜的制造方法及上述偏振器用保护膜的制造装置,所述偏振器用保护膜通过使用基材和防静电层在未进行混合的情况下被熔融固定、且基材层和防静电层一起具有取向性、形成了具有特定的厚度的防静电层的偏振器用保护膜,由此,基材与防静电层的层间的凝聚力、粘附力优异、还在不降低光学特性的情况下具有防静电性、防剥离带电性。本发明的偏振器用保护膜具有基材和在上述基材的单面上的由含有导电性聚合物的防静电剂组合物形成的防静电层,其特征在于,上述基材与防静电层在未进行混合的情况下被熔融固定、且具有取向性,上述防静电层的厚度为100nm以下。
搜索关键词: 保护膜 偏振 防静电层 基材 制造装置 取向性 熔融 防静电剂组合物 导电性聚合物 防静电性 光学特性 带电性 防剥离 基材层 层间 粘附 制造 凝聚力
【主权项】:
1.一种偏振器用保护膜,其具有基材和在所述基材的单面上的由含有导电性聚合物的防静电剂组合物形成的防静电层,其特征在于,所述基材与防静电层在未进行混合的情况下被熔融固定、且具有取向性,所述防静电层的厚度为100nm以下。
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