[发明专利]幕布及其制造方法、投影系统在审
| 申请号： | 201810040403.7 | 申请日： | 2018-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN107957653A | 公开（公告）日： | 2018-04-24 |
| 发明（设计）人： | 白冰;陈维涛;朴仁镐;张明辉;刘建涛 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/60 | 分类号： | G03B21/60 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种幕布及其制造方法、投影系统，属于显示技术领域。幕布包括第一透光基板；设置在所述第一透光基板的一侧的黑矩阵以及光子晶体层，所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个光子晶体，所述多个光子晶体包括至少两种颜色的光子晶体；设置在所述光子晶体层远离所述第一透光基板的一侧的第二透光基板。本发明通过光子晶体的光子带隙特性使得幕布能够滤除干扰光线，使其反射的光线的对比度较高，提升了幕布上图像的显示效果。 | ||
| 搜索关键词： | 幕布 及其 制造 方法 投影 系统 | ||
【主权项】：
一种幕布，其特征在于，包括：第一透光基板；设置在所述第一透光基板的一侧的黑矩阵以及光子晶体层，所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个光子晶体，所述多个光子晶体包括至少两种颜色的光子晶体；设置在所述光子晶体层远离所述第一透光基板的一侧的第二透光基板。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810040403.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
