[发明专利]幕布及其制造方法、投影系统在审
申请号: | 201810040403.7 | 申请日: | 2018-01-16 |
公开(公告)号: | CN107957653A | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | 白冰;陈维涛;朴仁镐;张明辉;刘建涛 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人: | 滕一斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 幕布 及其 制造 方法 投影 系统 | ||
1.一种幕布,其特征在于,包括:
第一透光基板;
设置在所述第一透光基板的一侧的黑矩阵以及光子晶体层,所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个光子晶体,所述多个光子晶体包括至少两种颜色的光子晶体;
设置在所述光子晶体层远离所述第一透光基板的一侧的第二透光基板。
2.根据权利要求1所述的幕布,其特征在于,所述幕布还包括:
设置在所述第一透光基板与所述黑矩阵之间的半透半反层。
3.根据权利要求1所述的幕布,其特征在于,
所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个像素单元,每个像素单元包括三种颜色的光子晶体,分别为红光光子晶体、绿光光子晶体和蓝光光子晶体,所述黑矩阵包括矩阵状排布的多个透光区域,所述多个光子晶体一一对应设置于所述多个透光区域中。
4.根据权利要求3所述的幕布,其特征在于,
所述红光光子晶体的禁带区域对应波长范围为640-780nm,所述绿光光子晶体的禁带区域对应波长范围为500-560nm,所述蓝光光子晶体的禁带区域对应波长范围为450-480nm。
5.根据权利要求2所述的幕布,其特征在于,
所述半透半反层包括透明膜层以及位于所述透明膜层靠近所述第一透光基板的一侧的镀银膜层。
6.根据权利要求1所述的幕布,其特征在于,
所述第一透光基板和所述第二透光基板均由透明材质制成;
和/或,所述第一透光基板和所述第二透光基板均由柔性材质制成。
7.一种投影系统,其特征在于,所述投影系统包括权利要求1至6任一所述的幕布。
8.根据权利要求7所述的投影系统,其特征在于,所述投影系统还包括:
投影仪。
9.一种幕布的制造方法,其特征在于,包括:
在第一透光基板的一侧形成黑矩阵以及光子晶体层,所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个光子晶体,所述多个光子晶体包括至少两种颜色的光子晶体;
在所述光子晶体层远离所述第一透光基板的一侧形成第二透光基板。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,在第一透光基板的一侧形成黑矩阵以及光子晶体层之前,所述方法还包括:
在第一透光基板的一侧形成半透半反层;
所述在第一透光基板的一侧形成黑矩阵以及光子晶体层,包括:
在所述半透半反层远离所述第一透光基板的一侧形成所述黑矩阵以及所述光子晶体层。
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