[发明专利]幕布及其制造方法、投影系统在审
申请号: | 201810040403.7 | 申请日: | 2018-01-16 |
公开(公告)号: | CN107957653A | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | 白冰;陈维涛;朴仁镐;张明辉;刘建涛 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司11138 | 代理人: | 滕一斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 幕布 及其 制造 方法 投影 系统 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种幕布及其制造方法、投影系统。
背景技术
随着科技的发展,投影系统已经广泛应用于多种场合,例如可以应用于商务会议、教学演讲甚至家庭影院。
投影系统通常包括投影仪及幕布,投影仪用于向幕布投射待显示的图像,幕布用于将该图像反射至人眼。目前的投影系统中的幕布,按照颜色可以分为白幕、灰幕以及金属幕等,按照材质可以分为传统白幕、软幕、玻纤幕以及透声幕等,用户可以根据不同的应用场合选择相对合适的幕布,例如该幕布设置于遮光情况良好的应用环境时,可以选取对投影环境的要求较高但是色彩还原能力最为准确的白幕。
但是,现有的幕布大多数是漫反射幕布,其将投影仪的光线向各个方向均匀地散射,但是其散射的不同颜色的光线容易相互干扰,导致最终显示的图像的对比度较低,显示效果较差。
发明内容
本发明实施例提供了一种幕布及其制造方法、投影系统,可以解决现有的幕布显示的图像的对比度较低,显示效果较差的问题。所述技术方案如下:
根据本发明的第一方面,提供了一种幕布,包括:
第一透光基板;
设置在所述第一透光基板的一侧的黑矩阵以及光子晶体层,所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个光子晶体,所述多个光子晶体包括至少两种颜色的光子晶体;
设置在所述光子晶体层远离所述第一透光基板的一侧的第二透光基板。
可选的,所述幕布还包括:
设置在所述第一透光基板与所述黑矩阵之间的半透半反层。
可选的,所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个像素单元,每个像素单元包括三种颜色的光子晶体,分别为红光光子晶体、绿光光子晶体和蓝光光子晶体,所述黑矩阵包括矩阵状排布的多个透光区域,所述多个光子晶体一一对应设置于所述多个透光区域中。
可选的,所述红光光子晶体的禁带区域对应波长范围为640-780nm,所述绿光光子晶体的禁带区域对应波长范围为500-560nm,所述蓝光光子晶体的禁带区域对应波长范围为450-480nm。
可选的,所述半透半反层包括透明膜层以及位于所述透明膜层靠近所述第一透光基板的一侧的镀银膜层。
可选的,所述第一透光基板和所述第二透光基板均由透明材质制成;
和/或,所述第一透光基板和所述第二透光基板均由柔性材质制成。
根据本发明的第二方面,提供一种投影系统,所述投影系统包括第一方面任一所述的幕布。
可选的,所述投影系统还包括:投影仪。
根据本发明的第三方面,提供一种幕布的制造方法,包括:
在第一透光基板的一侧形成黑矩阵以及光子晶体层,所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个光子晶体,所述多个光子晶体包括至少两种颜色的光子晶体;
在所述光子晶体层远离所述第一透光基板的一侧形成第二透光基板。
可选的,在第一透光基板的一侧形成黑矩阵以及光子晶体层之前,所述方法还包括:
在第一透光基板的一侧形成半透半反层;
所述在第一透光基板的一侧形成黑矩阵以及光子晶体层,包括:
在所述半透半反层远离所述第一透光基板的一侧形成所述黑矩阵以及所述光子晶体层。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
通过在幕布的第一透光基板和第二透光基板之间设置光子晶体,该光子晶体的光子带隙特性使得幕布能够滤除干扰光线,使其反射的光线的对比度较高,提升了图像的显示效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1A是本发明实施例提供的一种幕布的部分截面示意图;
图1B是本发明实施例提供的一种幕布的工作原理示意图;
图2A是本发明实施例提供的另一种幕布的工作原理示意图;
图2B是本发明实施例提供的又一种幕布的部分截面示意图;
图3是本发明实施例提供的一种幕布的制造方法的流程图;
图4是本发明实施例提供的另一种幕布的制造方法的流程图。
通过上述附图,已示出本发明明确的实施例,后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围,而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810040403.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。