[发明专利]触摸传感器及其制造方法有效
| 申请号： | 201810029387.1 | 申请日： | 2018-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN108304090B | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 金键;朴东必;朴容秀 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;钟海胜 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及具有提高了耐久性和光学特性的触摸传感器及其制造方法。该方法包括：将包含基底膜和形成在基底膜上的触摸传感器层的触摸传感器提供至退火室；以及在退火室中对触摸传感器实施退火工序，其中构成触摸传感器层的透明电极单元的厚度为35nm～150nm。根据本发明，通过优化影响触摸传感器的耐久性和光学特性的透明电极的厚度和退火条件，从而能够同时提高触摸传感器的柔性和耐久性，并且使触摸传感器的光学特性的降低最小化。 | ||
| 搜索关键词： | 触摸 传感器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造具有提高了耐久性和光学特性的触摸传感器的方法，所述方法包括：将包含基底膜和形成在所述基底膜上的触摸传感器层的触摸传感器提供至退火室；以及在所述退火室中对所述触摸传感器实施退火工序，其中，构成所述触摸传感器层的透明电极单元的厚度为35nm～150nm。
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