[发明专利]分割溅射靶在审
| 申请号： | 201780088428.8 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN110431252A | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 三轮昌宏;佐佐木宏卫;林俊庭;吴信辉 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 实施方式的一个方案的分割溅射靶(1)为将多个靶材(10)接合于基材(20)而形成的分割溅射靶(1)，其中，在通过将多个靶材(10)留有间隔地配置而形成的分割部(40)之中的至少一部分分割部(40)处所配置的一对靶材(10)的侧面(11)的至少一部分上分别形成有平坦面(12)，就在分割部(40)处相向的平坦面(12)彼此之间的间隔而言，最远离基材(20)的部分的间隔(Lt)比最接近基材(20)的部分的间隔(Lb)大，平坦面(12)的表面粗糙度Ra为0.3μm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 分割 溅射靶 平坦面 靶材 基材 表面粗糙度Ra 接合 配置的 相向 侧面 配置 | ||
【主权项】：
1.一种分割溅射靶，其是将多个靶材接合于基材而形成的分割溅射靶，其中，在通过将所述多个靶材留有间隔地配置而形成的分割部之中的至少一部分所述分割部处所配置的一对所述靶材的侧面的至少一部分上分别形成有平坦面，就在所述分割部处相向的所述平坦面彼此之间的间隔而言，最远离所述基材的部分的间隔比最接近所述基材的部分的间隔大，所述平坦面的表面粗糙度Ra为0.3μm以下。
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