[发明专利]用于控制抑制电极的热变形及控制离子束的均匀度的装置

摘要

本发明公开一种用于控制抑制电极的热变形及一种用于控制离子束的均匀度的装置。装置包含加热位于离抑制孔口最远处的抑制电极的边缘的加热元件。在操作中，最接近抑制电极的抑制电极的边缘可通过离子束加热。这一加热可导致抑制电极变形，从而影响离子束的均匀度。通过加热抑制电极的远端边缘，可控制抑制电极的热变形。在其它实施例中，加热抑制电极的远端边缘以产生更均匀的离子束。通过监测抑制电极下游处的离子束的均匀度，如通过使用射束均匀度测绘仪，控制器可调节施加到远端边缘的热量以实现期望的离子束均匀度。

主权项

1.一种用于控制抑制电极的热变形的装置，包括：离子源，具有限定离子源室的多个腔室壁且具有提取孔口；抑制电极，设置在所述离子源室外部且具有抑制孔口、接近所述抑制孔口设置的光学边缘以及设置在离所述抑制孔口最远处的远端边缘；加热元件，用以加热所述抑制电极的所述远端边缘；加热器电源，用以向所述加热元件提供电力；以及控制器，与所述加热器电源连通以便控制所述抑制电极的所述远端边缘的温度。