[发明专利]荧光X射线分析装置

摘要

本发明目的在于提供一种荧光X射线分析装置，结构简单能迅速进行高精度分析。本发明荧光X射线分析装置包括X射线源(100)，向样品(103)照射1次X射线；分光元件(120)，对样品(103)产生的2次X射线分光；能量分散型检测器(110)，测量2次X射线强度；退让机构(108)，使分光元件(120)从2次X射线路径退让；扫描机构(114)，在副测量区域(124)与主测量区域(122)之间连续移动检测器(110)，副测量区域在分光元件(120)退让机构退让状态测量2次X射线，主测量区域测量分光后的2次X射线；存储装置(116)，预先存储副测量区域(124)测量出的本底强度与主测量区域(122)测量出的本底强度的比率；运算装置(118)，进行从主测量区域(122)测量强度减副测量区域(124)本底强度乘以所述比率得到的值的校正，定量分析。

主权项

1.一种荧光X射线分析装置，其特征在于，包括：X射线源，向样品照射1次X射线；分光元件，对从所述样品产生出的2次X射线进行分光；能量分散型检测器，测量所述2次X射线的强度；退让机构，使所述分光元件从所述2次X射线的路径退让；扫描机构，在副测量区域与主测量区域之间使所述检测器连续移动，并改变所述分光元件的角度，以使得在所述主测量区域被所述分光元件分光后的所述2次X射线入射至所述检测器，所述副测量区域在所述分光元件通过所述退让机构退让完毕的状态下测量所述2次X射线，所述主测量区域测量被所述分光元件分光后的所述2次X射线；存储装置，预先存储在所述副测量区域测量出的所述2次X射线的本底强度与在所述主测量区域测量出的被所述分光元件分光后的所述2次X射线的本底强度的比率；以及运算装置，对所述副测量区域的测量强度包含的本底强度进行波形分离而计算，并进行从所述主测量区域的分析线的测量强度减去与所述分析线的能量对应的计算出的所述本底强度乘以所述比率得到的值的校正，进行定量分析。