[发明专利]荧光X射线分析装置

权利要求书

1.一种荧光X射线分析装置，其特征在于，包括：

X射线源，向样品照射1次X射线；

分光元件，对从所述样品产生出的2次X射线进行分光；

能量分散型检测器，测量所述2次X射线的强度；

退让机构，使所述分光元件从所述2次X射线的路径退让；

扫描机构，在副测量区域与主测量区域之间使所述检测器连续移动，并改变所述分光元件的角度，以使得在所述主测量区域被所述分光元件分光后的所述2次X射线入射至所述检测器，所述副测量区域在所述分光元件通过所述退让机构退让完毕的状态下测量所述2次X射线，所述主测量区域测量被所述分光元件分光后的所述2次X射线；

存储装置，预先存储在所述副测量区域测量出的所述2次X射线的本底强度与在所述主测量区域测量出的被所述分光元件分光后的所述2次X射线的本底强度的第1比率；以及

运算装置，对所述副测量区域的测量强度包含的本底强度进行波形分离而计算，并进行从所述主测量区域的分析线的测量强度减去与所述分析线的能量对应的计算出的所述本底强度乘以所述第1比率得到的值的校正，进行定量分析，

所述扫描机构在所述副测量区域与所述主测量区域之间使所述检测器以同一轴为中心连续地进行旋转移动，来共用所述主测量区域中用于测量的所述检测器以及所述扫描机构和所述副测量区域中用于测量的所述检测器以及所述扫描机构。

2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

所述扫描机构在所述副测量区域使所述检测器移动至从所述样品产生出的所述2次X射线直接入射的位置。

3.根据权利要求1所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

还包括全反射镜，其在所述分光元件退让完毕的位置去除高能分量，

所述存储装置预先存储如下两个本底强度之间的第2比率，即：在所述副测量区域测量出的被所述全反射镜所反射的所述2次X射线的本底强度；以及在所述主测量区域测量出的被所述分光元件分光后的所述2次X射线的本底强度。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

包括多个所述分光元件，分别对不同波长的所述2次X射线进行分光，

所述存储装置按每个所述分光元件存储不同的所述第1比率或第2比率。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

所述存储装置存储与所述2次X射线的能量对应的所述第1比率或第2比率。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

所述存储装置存储所述第1比率或第2比率作为所述2次X射线的能量的函数。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

测量存储于所述存储装置的所述第1比率或第2比率时，使用不包含分析对象元素的标准样品。

8.根据权利要求7所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

所述标准样品是石墨或丙烯酸。