[发明专利]接近式曝光装置以及接近式曝光方法

摘要

接近式曝光装置包括：平面镜(68)，具有能够校正曲率的镜变形单元(70)；CCD摄像机(30)，能够拍摄掩模M侧的对准标记(Ma)和工件(W)侧的对准标记(Wa)；存储部(91)，存储根据在对第一层的掩模(M)的图案进行曝光时照射到工件(W)的主光线(EL)的角度和掩模(M)及工件(W)间的间隙计算的对准标记(Wa)的初始偏移分量；以及控制装置(90)，在对第二层以后的掩模(M)的图案进行曝光时，利用对于由CCD摄像机(30)观测的工件(W)侧的对准标记(Wa)补偿初始偏移分量而得到的工件(W)侧的校正对准标记(Wa')以及掩模M侧的对准标记(Ma)来进行对准调整。

主权项

1.一种接近式曝光装置，包括：工件支承部，其对工件进行支承；掩模支承部，其对掩模进行支承；以及照明光学系统，其具有光源、积分器以及对来自光源的曝光光进行反射的多个反射镜，所述接近式曝光装置将来自所述光源的曝光光经由所述掩模而照射到所述工件，并将所述掩模的图案转印到所述工件，所述接近式曝光装置的特征在于，多个所述反射镜中的至少一个所述反射镜具有能够对所述反射镜的曲率进行校正的镜弯曲机构，所述接近式曝光装置具有：对准摄像机，其能够拍摄掩模侧的对准标记和工件侧的对准标记；存储部，其存储根据对第一层的所述掩模的图案进行曝光时照射到所述工件的所述曝光光的主光线的角度以及从所述掩模和所述工件间的间隙而算出的所述工件侧的对准标记的初始偏移分量；以及控制装置，其在对第二层以后的所述掩模的图案进行曝光时，利用对由所述对准摄像机观测的所述工件侧的对准标记补偿所述初始偏移分量而得到的工件侧的校正对准标记以及所述掩模侧的对准标记来进行对准调整。