[发明专利]接近式曝光装置以及接近式曝光方法

权利要求书

1.一种接近式曝光装置，包括：

工件支承部，其对工件进行支承；

掩模支承部，其对掩模进行支承；以及

照明光学系统，其具有光源、积分器以及对来自光源的曝光光进行反射的多个反射镜，

所述接近式曝光装置将来自所述光源的曝光光经由所述掩模而照射到所述工件，并将所述掩模的图案转印到所述工件，

所述接近式曝光装置的特征在于，

多个所述反射镜中的至少一个所述反射镜具有能够对所述反射镜的曲率进行校正的镜弯曲机构，

所述接近式曝光装置具有：

对准摄像机，其能够拍摄掩模侧的对准标记和工件侧的对准标记；

存储部，其存储根据对第一层的所述掩模的图案进行曝光时照射到所述工件的所述曝光光的主光线的角度以及从所述掩模和所述工件间的间隙而算出的所述工件侧的对准标记的初始偏移分量；以及

控制装置，其在对第二层以后的所述掩模的图案进行曝光时，利用对由所述对准摄像机观测的所述工件侧的对准标记补偿所述初始偏移分量而得到的工件侧的校正对准标记以及所述掩模侧的对准标记来进行对准调整。

2.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

在对所述第二层以后的所述掩模的图案进行曝光时，根据所述掩模侧的对准标记与所述工件侧的校正对准标记在各位置的偏移量，来驱动所述镜弯曲机构以对所述反射镜的曲率进行校正。

3.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述接近式曝光装置还具有镜移动机构，所述镜移动机构能够使具有所述镜弯曲机构的所述反射镜沿相对于该反射镜垂直的垂直方向移动，

在对所述第二层以后的所述掩模的图案进行曝光时，根据所述掩模侧的对准标记与所述工件侧的校正对准标记在各位置的偏移量，来算出平均偏移量，并根据该平均偏移量而利用所述镜移动机构来变更所述反射镜的倾斜度，并且根据在所述各位置的偏移量与所述平均偏移量的差分而利用所述镜弯曲机构来对所述反射镜的曲率进行校正。

4.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述存储部在对第二层以后的预定的层中的所述掩模的图案进行曝光时，对所述工件侧的校正对准标记，在曝光了预定数量的工件时，将与曝光时的所述掩模侧的对准标记的位置偏移分量平均化而记录为应变引起的偏移分量，

所述控制装置根据所述应变引起的偏移分量而利用所述镜弯曲机构来对所述反射镜的曲率进行校正。

5.一种接近式曝光方法，

所述接近式曝光方法使用接近式曝光装置，将来自光源的曝光光经由掩模而照射到工件以将所述掩模的图案转印到所述工件，

所述接近式曝光装置包括：

工件支承部，其对所述工件进行支承；

掩模支承部，其对所述掩模进行支承；以及

照明光学系统，其具有所述光源、积分器以及对来自所述光源的曝光光进行反射的多个反射镜，

多个所述反射镜中的至少一个所述反射镜具有能够对所述反射镜的曲率进行校正的镜弯曲机构，

所述接近式曝光装置具有能够拍摄掩模侧的对准标记和工件侧的对准标记的对准摄像机，

所述接近式曝光方法的特征在于，包括：

存储根据在对第一层的掩模的图案进行曝光时照射到所述工件的所述曝光光的主光线的角度以及从所述掩模和所述工件间的间隙而算出的所述工件侧的对准标记的初始偏移分量的工序；以及

在对第二层以后的所述掩模的图案进行曝光时，利用对由所述对准摄像机观测的所述工件侧的对准标记补偿所述初始偏移分量而得到的工件侧的校正对准标记，以及所述掩模侧的对准标记来进行对准调整的工序。

6.根据权利要求5所述的接近式曝光方法，其特征在于，

在对所述第二层以后的所述掩模的图案进行曝光时，根据所述掩模侧的对准标记与所述工件侧的校正对准标记在各位置的偏移量，来驱动所述镜弯曲机构以对所述反射镜的曲率进行校正。