[发明专利]抗反射材料在审

专利信息
申请号: 201780063069.0 申请日: 2017-10-03
公开(公告)号: CN109804276A 公开(公告)日: 2019-05-24
发明(设计)人: 高林尚史 申请(专利权)人: 株式会社大赛璐
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B5/02;H01L23/29;H01L23/31;H01L33/56
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于提供一种抗反射材料,和光半导体被该抗反射材料密封而成的光半导体装置,该抗反射材料具有充分的抗反射功能,并可以防止光源的总光通量降低,并且具有高耐热性(特别是耐热水性)。本发明的目的在于提供一种抗反射材料,以及光半导体被该抗反射材料密封而成的光半导体装置,所述抗反射材料包含分散有疏水性多孔无机填料的树脂组合物的固化物,其中,该固化物的表面上形成有抑制反射的凹凸。
搜索关键词: 抗反射材料 光半导体装置 光半导体 固化物 密封 多孔无机填料 抗反射功能 树脂组合物 高耐热性 耐热水性 总光通量 疏水性 反射 光源
【主权项】:
1.一种抗反射材料,其包含分散有疏水性多孔无机填料的树脂组合物的固化物,其中,该固化物的表面上形成有抑制反射的凹凸。
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