[发明专利]金属掩模用原材料及其制造方法有效
| 申请号： | 201780056493.2 | 申请日： | 2017-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN109715834B | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 大森章博;羽田野雄一 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C21C7/00 | 分类号： | C21C7/00;C22C38/00;C22C38/08;C22B9/04;C22B9/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区港南一丁目2*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种金属掩模用原材料，其氧化物系非金属夹杂物微细，个数也非常少，能够呈现优异的蚀刻加工性。一种金属掩模用原材料及其制造方法，所述金属掩模用原材料具有以质量％计，含有C：0.01％以下、Si：0.5％以下、Mn：1.0％以下、Ni：30％～50％，剩余部分为Fe及不可避免的杂质的组成，其中，所述金属掩模用原材料每1g中，直径超过10.0μm的氧化物系非金属夹杂物为2.0个以下，直径为6.0μm～10.0μm的氧化物系非金属夹杂物的个数为20.0个以下，并且所述金属掩模用原材料为板厚0.25mm以下的薄板形状。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 掩模用 原材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属掩模用原材料，具有以质量％计，含有C：0.01％以下、Si：0.5％以下、Mn：1.0％以下、Ni：30％～50％，剩余部分为Fe及不可避免的杂质的组成，所述金属掩模用原材料的特征在于，所述金属掩模用原材料每1g中，直径超过10.0μm的氧化物系非金属夹杂物为2.0个以下，直径为6.0μm～10.0μm的氧化物系非金属夹杂物的个数为20.0个以下，所述原材料为板厚0.25mm以下的薄板形状。
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