[发明专利]金属掩模用原材料及其制造方法

说明书

本发明的目的在于提供一种金属掩模用原材料，其氧化物系非金属夹杂物微细，个数也非常少，能够呈现优异的蚀刻加工性。一种金属掩模用原材料及其制造方法，所述金属掩模用原材料具有以质量％计，含有C：0.01％以下、Si：0.5％以下、Mn：1.0％以下、Ni：30％～50％，剩余部分为Fe及不可避免的杂质的组成，其中，所述金属掩模用原材料每1g中，直径超过10.0μm的氧化物系非金属夹杂物为2.0个以下，直径为6.0μm～10.0μm的氧化物系非金属夹杂物的个数为20.0个以下，并且所述金属掩模用原材料为板厚0.25mm以下的薄板形状。

技术领域

本发明涉及一种金属掩模(metal mask)用原材料及其制造方法。

背景技术

例如在有机电致发光(Electro-Luminescence，EL)显示器的制作中，为了对基板进行蒸镀以生成彩色图案(color patterning)，而使用金属掩模。此种金属掩模中，作为制作开孔部的方法之一，已知对金属掩模用原材料进行蚀刻加工的方法。作为所述金属掩模用原材料而使用Fe-Ni合金的薄板等，但若在所述Fe-Ni合金的薄板中大量存在非金属夹杂物或Ni等的偏析，则蚀刻的进程变得不均匀，从而导致蚀刻精度受损。因此，已知非金属夹杂物的减少对蚀刻加工性的提升是有效的，从而进行了各种提案。例如在专利文献1中，为了提升蚀刻性及压制成型性，公开了一种Fe-Ni系薄板的制造方法，即：在对通过预备精炼而脱C的熔钢的上表面进行加热，而进行了炉渣(slag)精炼后，进行铸造而制成自耗电极，将所述自耗电极进行真空电弧重熔，之后将所述钢块通过热加工及冷加工而制成薄板。而且，在专利文献2中，为了改善材料中的夹杂物或针孔(pin hole)的问题，公开了一种图像显示装置用金属间隔壁的制造方法，即：在将真空熔炼或真空精炼的Fe-Ni系合金的熔融金属制成铸块后，进行热加工，之后，实施冷加工而制成薄板，将所述薄板通过蚀刻而加工成间隔壁的形状。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2002-069543号公报

专利文献2：日本专利特开2000-090824号公报

发明内容

发明所要解决的问题

为了制作更高精细的产品，要求对所使用的掩模形成更高精度的图案。为了应对所述要求，对金属掩模用原材料也要求进一步提升蚀刻性。所述专利文献2所记载的发明是对非金属夹杂物的微细化有效的发明，但在满足专利文献2的构成的情况下，也存在对于更高精度的蚀刻而言不充分的情况。本发明的目的是有关于一种能够使蚀刻加工性大幅提升的金属掩模用原材料，及可获得所述金属掩模用原材料的制造方法。

解决问题的技术手段

即本发明的一方式为一种金属掩模用原材料，具有以质量％计，含有C：0.01％以下、Si：0.5％以下、Mn：1.0％以下、Ni：30％～50％，剩余部分为Fe及不可避免的杂质的组成，所述金属掩模用原材料的特征在于，

所述金属掩模用原材料每1g中，

直径超过10.0μm的氧化物系非金属夹杂物为2.0个以下，

直径为6.0μm～10.0μm的氧化物系非金属夹杂物的个数为20.0个以下，

所述金属掩模用原材料为板厚0.25mm以下的薄板形状。

本发明的另一方式为一种金属掩模用原材料的制造方法，其是具有以质量％计，含有C：0.01％以下、Si：0.5％以下、Mn：1.0％以下、Ni：30％～50％，剩余部分为Fe及不可避免的杂质的组成的金属掩模用原材料的制造方法，包括：

自耗电极制造步骤，通过真空熔炼来制造重熔用的第一自耗电极；