[发明专利]化学机械平坦化浆料及其形成方法在审
申请号: | 201780056425.6 | 申请日: | 2017-09-21 |
公开(公告)号: | CN109715751A | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | I·T·锡尼什;A·奎朋;C·L·马尔德;D·E·沃德;V·勒鲁 | 申请(专利权)人: | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09K3/14 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 徐舒 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种CMP浆料,所述CMP浆料包括:载体;在所述载体内的微粒材料,其包括氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、金刚石或其任何组合;氧化剂,其包括选自过氧化物、过硫酸盐、高锰酸盐、高碘酸盐、高氯酸盐、次氯酸盐、碘酸盐、过氧单硫酸盐、硝酸铈铵、高碘酸、铁氰化物或其任何组合的组的至少一种材料;并且根据标准化抛光测试,材料去除率指数(MRR)为至少500纳米/小时且平均粗糙度指数(Ra)不大于5埃。 | ||
搜索关键词: | 化学机械平坦化 氧化剂 材料去除率 平均粗糙度 金刚石 次氯酸盐 单硫酸盐 高碘酸盐 高氯酸盐 高锰酸盐 过硫酸盐 过氧化物 铁氰化物 微粒材料 硝酸铈铵 抛光 氮化物 碘酸盐 高碘酸 硼化物 碳化物 氧化物 浆料 标准化 体内 测试 | ||
【主权项】:
1.一种CMP浆料,其包含:载体;在所述载体内的微粒材料,其包含氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、金刚石或其任何组合;氧化剂,其包含选自过氧化物、过硫酸盐、高锰酸盐、高碘酸盐、高氯酸盐、次氯酸盐、碘酸盐、过氧单硫酸盐、硝酸铈铵、高碘酸、铁氰化物或其任何组合的组的至少一种材料;并且根据标准化抛光测试,材料去除率指数(MRR)为至少500纳米/小时且平均粗糙度指数(Ra)不大于5埃。
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