[发明专利]具有侧光罩遏制的光罩舱有效
| 申请号： | 201780053077.7 | 申请日： | 2017-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN109690401B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | R·拉施克;B·格雷格森;S·埃格门 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | G03F1/66 | 分类号： | G03F1/66;G03F7/20;H01L21/673 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 顾晨昕 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光罩舱，其包含外舱、内舱盖和内底座板。光罩支撑在所述底座上，且包含在由所述内舱盖和所述内舱底座产生的环境内。所述内舱盖可包含多个光罩保持器，其经配置以接触所述光罩的侧壁，并限制所述光罩在水平方向上的移动。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 侧光罩 遏制 光罩舱 | ||
【主权项】：
1.一种用于固持光罩的光罩舱，其包括：底座，其经配置以支撑其上的光罩；盖，其具有顶部表面，且经配置以与所述底座配对；以及一或多个光罩保持器，其各自包含光罩接触部件，其经配置以接触光罩的侧壁，来限制所述光罩的移动，每一光罩接触部件包含向外延伸的臂和延伸穿过所述盖的向下延伸的支腿，其中在所述臂致动后，所述向下延伸的支腿经配置以在朝光罩的侧壁的方向上移动。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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