[发明专利]剥离层形成用组合物有效
| 申请号： | 201780046605.6 | 申请日： | 2017-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN109476912B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 进藤和也;江原和也 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08G73/10 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 何杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明提供剥离层形成用组合物，其包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂，上述二胺成分包含2,2'‑双(三氟甲基)‑4,4'‑二氨基联苯，上述四羧酸二酐成分包含由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐。 |
||
| 搜索关键词： | 剥离 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.剥离层形成用组合物，其特征在于，包含作为二胺成分与四羧酸二酐成分的反应物的聚酰胺酸和有机溶剂，所述二胺成分包含2,2’‑双(三氟甲基)‑4,4’‑二氨基联苯，所述四羧酸二酐成分包含由式(B1)或(B2)表示的芳族四羧酸二酐，[化1]![]()
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学株式会社，未经日产化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780046605.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
