[发明专利]膜片阀和半导体制造装置用流量控制设备有效

专利信息
申请号: 201780046535.4 申请日: 2017-08-17
公开(公告)号: CN109477587B 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 高朝克图 申请(专利权)人: 株式会社开滋SCT
主分类号: F16K7/12 分类号: F16K7/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张泽洲;谭祐祥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供能够在避免因阀座的直径增大、冲程的增大等而导致的阀的大型化的同时、切实增大阀流量、而且还能够维持甚至提高阀的耐久性·寿命的简易且最优地构成的膜片阀和半导体制造装置用流量控制设备。即,本发明的膜片阀在具有流入流路和流出流路的主体的阀室中,具有挤压外周周围的膜片和阀座座部,将该膜片设置为通过阀杆的升降移动来自由地开关阀室,该膜片的形态呈具有近似平面状的中央区域、和比中央区域靠外周侧且曲率半径小的边界区域的截面近似扁平形状,边界区域位于阀座座部的外周侧附近。
搜索关键词: 膜片 半导体 制造 装置 流量 控制 设备
【主权项】:
1.一种膜片阀,前述膜片阀在具有流入流路和流出流路的主体的阀室中,具有挤压外周周围的膜片和阀座座部,将该膜片设置成通过阀杆的升降移动来自由地开关阀室,其特征在于,该膜片的形态呈具有边界区域和近似平面状的中央区域的截面近似扁平形状,前述边界区域比中央区域靠外周侧且曲率半径小,前述边界区域位于前述阀座座部的外周侧附近。
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