[发明专利]用于化学机械抛光的保持环有效
| 申请号： | 201780045515.5 | 申请日： | 2017-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN109475997B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 安德鲁·J·纳甘盖斯特;克里斯托弗·兴-均·李;托马斯·李;阿南德·N·伊耶;刁杰;焕波·张;埃里克·S·罗丹姆;李魏成;吴正勋 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32;H01L21/687;B24B37/04;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种保持环，包括大致环形主体，所述大致环形主体具有内部表面和底部表面，所述内部表面用于束缚基板，所述底部表面具有多个通道和多个岛状部，多个通道从外部表面延伸至内部表面，并且多个岛状部由通道分开且提供接触面积以接触抛光垫，其中接触面积是底部表面的平面面积的约15％‑40％。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 保持 | ||
【主权项】：
1.一种保持环，包含：大致环形主体，具有内部表面和底部表面，所述内部表面用于束缚基板，所述底部表面具有多个通道和多个岛状部，所述多个通道从外部表面延伸至所述内部表面，并且所述多个岛状部由所述通道分开并且提供接触面积以接触抛光垫，其中所述接触面积是所述底部表面的平面面积的约15％‑40％。
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