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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]内表面具有特征结构的保持环-CN202110032638.3有效
发明人：史蒂芬·马克·雷迪;西蒙·亚沃伯格;吴正勋;史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;塞缪尔·楚-江·许;高塔姆·沙善·丹达瓦特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：保持环的一些实施方式具有内表面，所述内表面具有由多个平面刻面形成的第一部分和沿边界邻接第一部分的第二部分，并且保持环包括从外部朝内向下倾斜的截头圆锥形表面。保持环的一些实施方式具有锯齿状内表面或蜿蜒内表面和/或具有不同表面性质或不同倾斜角的交替区域的内表面。
表面具有特征结构保持

[发明专利]内表面具刻面的固定环和包括该固定环的承载头-CN202010266127.3有效
发明人：吴正勋;史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;塞缪尔·楚-江·许;高塔姆·沙善·丹达瓦特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：固定环包括大体环状主体。该主体包括顶表面、底表面、外表面及内表面，该外表面在外顶部周边处与顶表面连接及在外底部周边处与底表面连接，该内表面在内顶部周边处与该顶表面连接及在内底部周边处与底表面连接。内表面包含七或七个以上的平坦刻面。邻近的平坦刻面于角(corner)处连接。内底部周边包含于角处连接的平坦刻面的直边。
表面具刻面固定包括承载

[发明专利]用于化学机械抛光的保持环-CN202111356443.0在审
发明人： 安德鲁·J·纳甘盖斯特;克里斯托弗·兴-均·李;托马斯·李;阿南德·N·伊耶;刁杰;焕波·张;埃里克·S·罗丹姆;李魏成;吴正勋 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：一种保持环，包括大致环形主体，所述大致环形主体具有内部表面和底部表面，所述内部表面用于束缚基板，所述底部表面具有多个通道和多个岛状部，多个通道从外部表面延伸至内部表面，并且多个岛状部由通道分开且提供接触面积以接触抛光垫，其中接触面积是底部表面的平面面积的约15％‑40％。
用于化学机械抛光保持

[发明专利]用于化学机械抛光的保持环-CN201780045515.5有效
发明人： 安德鲁·J·纳甘盖斯特;克里斯托弗·兴-均·李;托马斯·李;阿南德·N·伊耶;刁杰;焕波·张;埃里克·S·罗丹姆;李魏成;吴正勋 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-07-24 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：一种保持环，包括大致环形主体，所述大致环形主体具有内部表面和底部表面，所述内部表面用于束缚基板，所述底部表面具有多个通道和多个岛状部，多个通道从外部表面延伸至内部表面，并且多个岛状部由通道分开且提供接触面积以接触抛光垫，其中接触面积是底部表面的平面面积的约15％‑40％。
用于化学机械抛光保持

[发明专利]用于化学机械抛光的双膜承载头-CN202010854945.5在审
发明人：史蒂文·M·苏尼加;杰伊·古鲁萨米;安德鲁·J·纳甘盖斯特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-08-24 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：一种用于化学机械抛光的承载头，包含：基座组件连接至所述基座组件的膜组件。所述膜组件包含：膜支撑件、固定至所述膜支撑件的内膜、和固定至所述膜支撑件并且在所述内膜下方延伸的外膜，其中所述内膜在膜的上表面与所述膜支撑件之间形成多个可单独加压的内部腔室，所述外膜具有内表面和外表面，其中所述外膜在所述外膜的所述内表面与所述内膜的下表面之间界定下部可加压腔室，其中所述内表面被定位成在所述多个腔室中的一个或多个腔室被加压时与所述内膜的下表面接触，并且其中所述外表面被配置为接触基板。
用于化学机械抛光承载

[发明专利]内表面具有特征结构的保持环-CN201610366091.X有效
发明人：史蒂芬·马克·雷迪;西蒙·亚沃伯格;吴正勋;史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;塞缪尔·楚-江·许;高塔姆·沙善·丹达瓦特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：保持环的一些实施方式具有内表面，所述内表面具有由多个平面刻面形成的第一部分和沿边界邻接第一部分的第二部分，并且保持环包括从外部朝内向下倾斜的截头圆锥形表面。保持环的一些实施方式具有锯齿状内表面或蜿蜒内表面和/或具有不同表面性质或不同倾斜角的交替区域的内表面。
表面具有特征结构保持

[发明专利]内表面具刻面的固定环、承载头及利用固定环的抛光方法-CN201580021182.3有效
发明人：吴正勋;史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;塞缪尔·楚-江·许;高塔姆·沙善·丹达瓦特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-04-15 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：固定环包括大体环状主体。该主体包括顶表面、底表面、外表面及内表面，该外表面在外顶部周边处与顶表面连接及在外底部周边处与底表面连接，该内表面在内顶部周边处与该顶表面连接及在内底部周边处与底表面连接。内表面包含七或七个以上的平坦刻面。邻近的平坦刻面于角(corner)处连接。内底部周边包含于角处连接的平坦刻面的直边。
表面具刻面固定承载利用抛光方法

[实用新型]一种保持环-CN201620502522.6有效
发明人：史蒂芬·马克·雷迪;西蒙·亚沃伯格;吴正勋;史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;塞缪尔·楚-江·许;高塔姆·沙善·丹达瓦特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-27 - 公布日： 2016-12-14 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：保持环的一些实施方式具有内表面，所述内表面具有由多个平面刻面形成的第一部分和沿边界邻接第一部分的第二部分，并且保持环包括从外部朝内向下倾斜的截头圆锥形表面。保持环的一些实施方式具有锯齿状内表面或蜿蜒内表面和/或具有不同表面性质或不同倾斜角的交替区域的内表面。
一种保持

[发明专利]具有保持环和夹持环的研磨头-CN200710165592.2有效
发明人：史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;吴正勋 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-11-22 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。该底座组件相对于该罩可垂直移动。该保持环连接至该底座组件并相对于该底座组件可垂直移动，且具有构造为接触研磨垫的下表面和构造为外周围绕衬底的边缘以保持衬底的内表面。该夹持环连接至该底座组件并相对于该底座组件垂直固定，外周围绕该保持环以防止该保持环的横向移动，并且具有构造为接触研磨垫的底表面。
具有保持夹持研磨

[发明专利]保持环、用于向保持环施加负载的柔性膜和保持环组件-CN200710165591.8有效
发明人：史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;吴正勋 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-11-22 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。一种保持环组件具有设计形状以提供环形腔室的柔性膜和环形保持环，其中该柔性膜的环形同心凸起设计尺寸以啮合入该环形保持环的环形同心凹陷中。
保持用于施加负载柔性组件

[发明专利]用于研磨头的柔性膜-CN200710165597.5有效
发明人：史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;吴正勋 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-11-22 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。该柔性膜具有主要部分和外环形部分，其中该主要部分和该外环形部分之间的接合点包括外围边缘铰链和沿该外环形部分的外壁的铰链上方的凹陷。
用于研磨柔性

[发明专利]用于研磨头的夹持环-CN200710165596.0有效
发明人：史蒂文·M·苏尼加;安德鲁·J·纳甘盖斯特;吴正勋 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-11-22 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。该夹持环具有环形上部分和环形下部分，该环形下部分具有比环形上部分的上表面更小内径的下表面，其中该夹持环外周围绕保持环并具有接触研磨垫的下表面。
用于研磨夹持

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