[发明专利]涂层装置以及涂层方法

摘要

一种用于在一个或多个基板(10)上沉积层的装置，具有布置在反应器壳体(1)中的过程室(2)；可调温的进气机构(3)，用于沿通向所述基板(10)的流动方向(S)将过程气体流导入所述过程室(2)；沿流动方向(S)直接布置在至少一个进气机构(3)的排气面之后的屏蔽元件(6)，该屏蔽元件处于屏蔽位置时将至少一个进气机构(3)和所述基板(10)相互热隔离；多个沿流动方向(S)布置在屏蔽元件(6)之后的掩模支架(7、7’)，分别用于固持掩模(8、8’)；彼此实体分离的基板架(9、9’)，用于固持所述基板(10)中的至少一个，所述基板架(9、9’)分别对应于多个掩模支架(7、7’)中的一个并且沿流动方向(S)布置在所述掩模(8、8’)之后；其中，针对多个基板架(9、9’)中的每一个均设有移动机构(11、11’)，用于将所述基板架(9、9’)从相对掩模支架(7、7’)的远离位置移动至相对掩模支架(7、7’)的邻近位置，在远离位置上，所述基板架(9、9’)可装载和可卸载基板(10、10’)，在邻近位置上，布置在所述基板架(9、9’)上的基板(10、10’)能够以贴靠在掩模(8、8’)上的贴靠位置被涂层。

主权项

1.一种用于在一个或多个基板(10)上沉积层的装置，具有布置在反应器壳体(1)中的过程室(2)及以下特征：a)至少一个可调温的进气机构(3)，用于沿通向所述基板(10)的流动方向(S)将过程气体流导入所述过程室(2)；b)至少一个沿流动方向(S)直接布置在至少一个进气机构(3)的排气面之后的屏蔽元件(6)，所述屏蔽元件处于屏蔽位置时将至少一个进气机构(3)和所述基板(10)相互热隔离；c)多个沿流动方向(S)布置在屏蔽元件(6)之后的遮罩支架(7、7’)，分别用于固持遮罩(8、8’)；d)多个彼此实体分离的基板架(9、9’)，用于固持所述基板(10)中的至少一个，所述基板架(9、9’)分别对应于多个遮罩支架(7、7’)中的一个并且沿流动方向(S)布置在所述遮罩(8、8’)之后；e)针对多个基板架(9、9’)中的每一个的移动机构(11、11’)，用于将所述基板架(9、9’)从相对遮罩支架(7、7’)的远离位置移动至相对遮罩支架(7、7’)的邻近位置，在远离位置上，所述基板架(9、9’)可装载和可卸载基板(10、10’)，在邻近位置上，布置在所述基板架(9、9’)上的基板(10、10’)能够以贴靠在遮罩(8、8’)上的贴靠位置被涂层；f)其中，屏蔽元件(6)是统一的屏蔽元件，或者设有多个屏蔽元件，其中，一个或多个屏蔽元件处于屏蔽位置时同时布置在所有遮罩支架(7、7’)与至少一个进气机构(3)的所有排气面之间，并且在同时涂布多个基板(10、10’)期间同时被容纳在保存室(17)中。