[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201780034118.8 申请日: 2017-03-28
公开(公告)号: CN109314155B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 李尚烈;金青松;文智炯;朴鲜雨;宋俊午 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/38;H01L29/78;H01L29/423;G08C23/04;H01L33/02;G09G3/32;H01L29/772
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 石海霞;金鹏
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 根据一个实施例的半导体器件可以包括:发光结构,包括第一导电型半导体层、设置在第一导电型半导体层上的有源层、以及设置在有源层上的第二导电型半导体层;晶体管,设置在发光结构上,并包括半导体层、源电极、栅电极和漏电极;第二电极,设置在第二导电型半导体层上,并电连接到漏电极和第二导电型半导体层;第一接合焊盘,设置在发光结构上,并电连接到第一导电型半导体层;第二接合焊盘,设置在晶体管上,并电连接到源电极;以及第三接合焊盘,设置在晶体管上,并电连接到栅电极。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:发光结构,包括第一导电类型半导体层、设置在所述第一导电类型半导体层上的有源层、以及设置在所述有源层上的第二导电类型半导体层;晶体管,设置在所述发光结构上,并包括半导体层、源电极、栅电极和漏电极;第二电极,设置在所述第二导电类型半导体层上,并电连接到所述漏电极和所述第二导电类型半导体层;第一接合焊盘,设置在所述发光结构上,并电连接到所述第一导电类型半导体层;第二接合焊盘,设置在所述晶体管上,并电连接到所述源电极;以及第三接合焊盘,设置在所述晶体管上,并电连接到所述栅电极。
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