[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物有效
| 申请号： | 201780030002.7 | 申请日： | 2017-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN109154778B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 西卷裕和;桥本圭祐;坂本力丸 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G8/00;G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 曾祯;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1a)和/或式(1b)所示的重复结构单元的聚合物、和溶剂。[式(1a)和(1b)中，2个R |
||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：具有下述式(1a)和/或式(1b)所示的重复结构单元的聚合物、和溶剂，![]()
式(1a)和(1b)中，2个R1各自独立地表示碳原子数1～10的烷基、碳原子数2～6的烯基、芳香族烃基、卤原子、硝基或氨基，2个R2各自独立地表示氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数2～6的烯基、缩醛基、酰基或缩水甘油基，R3表示可以具有取代基的芳香族烃基或杂环基，R4表示氢原子、苯基或萘基，与同一碳原子结合的R3和R4在各自表示苯基时可以彼此结合而形成芴环，2个k各自独立地表示0或1，m表示3～500的整数，p表示3～500的整数，X表示苯环，与该苯环结合的2个‑C(CH3)2‑基处于间位或对位的关系。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学株式会社，未经日产化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780030002.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
