[发明专利]用于确定结构的特性的方法和装置、器件制造方法有效
| 申请号： | 201780026352.6 | 申请日： | 2017-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN109073568B | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | P·A·J·廷尼曼斯;S·G·J·马斯杰森;S·B·鲁博尔;林楠 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/956;H01L21/66;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 例如用x射线或EUV波段中的辐射来照射感兴趣结构(T)，并且通过检测器(19、274、908、1012)检测散射的辐射。处理器(PU)例如通过仿真(S16)辐射与结构的交互并且比较(S17)仿真交互与检测辐射来计算诸如线宽(CD)或覆盖(OV)的特性。该方法被修改(S14a、S15a、S19a)来考虑由检查辐射引起的结构中的改变。这些改变例如可以是材料的收缩或者光学特性的改变。可以在当前观察或先前观察中由检测辐射引起改变。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 结构 特性 方法 装置 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种确定结构的特性的方法，所述方法包括以下步骤：(a)限定一个或多个可变参数以表示所述结构，所述可变参数包括至少一个感兴趣参数；(b)接收通过用检查辐射将所述结构曝光一次或多次并且在与所述结构交互之后观察所述检查辐射而得到的观察数据；以及(c)基于所述观察数据，确定所述感兴趣参数的值作为所述结构的特性，其中考虑在曝光周期期间由所述检查辐射引起的所述结构中的改变来执行所述感兴趣参数的确定。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780026352.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：零件检查装置及方法
- 下一篇：在气体吸附下的关键尺寸测量
