[发明专利]投射镜头的衰减滤光器、投射曝光设备的具有衰减滤光器的投射镜头以及具有投射镜头的投射曝光设备有效
| 申请号: | 201780018875.6 | 申请日: | 2017-03-23 |
| 公开(公告)号: | CN109073983B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
| 发明(设计)人: | T.格鲁纳;R.绍默 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 邱军 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 一种衰减滤光器(AF,AF’,AF1,AF2,AF3),配置为于微光刻投射曝光设备(WSC)的投射镜头(PO,PO’)中根据可指定的局部分布用于具有150nm至370nm的波长范围的指定工作波长的紫外辐射(LR1I,LR2I)的强度的限定的衰减。衰减滤光器具有基板(SU,SU’)及吸收层(AL)。基板在该工作波长下为足够透明的。吸收层布置于基板上且在使用区(UA)的不同位置(Z1,Z2)根据可指定的局部分布吸收该工作波长的入射紫外辐射至不同程度。衰减滤光器设计为降低或避免由于基板的局部变化加热所造成的在已通过衰减滤光器的紫外辐射(LR1O,LR2O)中的热致波前变化误差,其中基板的局部变化加热由在基板上局部地变化的紫外辐射的吸收所引起。基板(SU)的厚度(TS)小于100μm。 | ||
| 搜索关键词: | 投射 镜头 衰减 滤光 曝光 设备 具有 以及 | ||
【主权项】:
暂无信息
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