[实用新型]带水冷的旋转下降装置及具有该装置的晶体生长装置有效
| 申请号： | 201721850789.5 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN207811926U | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 沈彭平;柯金伟;任雄 | 申请（专利权）人： | 上海煜志机电设备有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/00 | 分类号： | C30B15/00 |
| 代理公司： | 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 | 代理人： | 于晓菁 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型技术方案公开了一种带水冷的旋转下降装置，包括支架、水冷杆、旋转装置、真空加热装置、设于所述支架上的线性导轨、设于所述线性导轨上的线性导轨滑块、设于所述支架上的升降装置及设于所述真空加热装置内的工件，所述水冷杆的一端固定于所述升降装置，另一端伸入所述真空加热装置并支撑所述工件，所述升降装置与所述线性导轨通过所述线性导轨滑块相连，所述升降装置带动所述水冷杆沿所述线性导轨上下滑动，所述旋转装置与所述水冷杆相连，所述水冷杆内设有进水管道，所述水冷杆侧壁设有冷却水出口。本实用新型技术方案具有密封性能良好、晶体生长速率高、制备的晶体均匀性较好、结构简单、易于操作等优点，具有较高的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 水冷杆 升降装置 线性导轨 真空加热装置 支架 线性导轨滑块 本实用新型 下降装置 旋转装置 水冷 晶体生长装置 冷却水出口 进水管道 晶体生长 密封性能 上下滑动 均匀性 侧壁 伸入 制备 支撑 应用 | ||
【主权项】：
1.一种带水冷的旋转下降装置，其特征在于，包括支架、水冷杆、旋转装置、真空加热装置、设于所述支架上的线性导轨、设于所述线性导轨上的线性导轨滑块、设于所述支架上的升降装置及设于所述真空加热装置内的工件，所述水冷杆的一端固定于所述升降装置，另一端伸入所述真空加热装置并支撑所述工件，所述升降装置与所述线性导轨通过所述线性导轨滑块相连，所述升降装置带动所述水冷杆沿所述线性导轨上下滑动，所述旋转装置与所述水冷杆相连，所述水冷杆内设有进水管道，所述水冷杆侧壁设有冷却水出口。
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