[实用新型]带水冷的旋转下降装置及具有该装置的晶体生长装置

说明书

本实用新型技术方案公开了一种带水冷的旋转下降装置，包括支架、水冷杆、旋转装置、真空加热装置、设于所述支架上的线性导轨、设于所述线性导轨上的线性导轨滑块、设于所述支架上的升降装置及设于所述真空加热装置内的工件，所述水冷杆的一端固定于所述升降装置，另一端伸入所述真空加热装置并支撑所述工件，所述升降装置与所述线性导轨通过所述线性导轨滑块相连，所述升降装置带动所述水冷杆沿所述线性导轨上下滑动，所述旋转装置与所述水冷杆相连，所述水冷杆内设有进水管道，所述水冷杆侧壁设有冷却水出口。本实用新型技术方案具有密封性能良好、晶体生长速率高、制备的晶体均匀性较好、结构简单、易于操作等优点，具有较高的应用价值。

技术领域

本实用新型涉及结晶设备领域，尤其涉及一种带水冷的旋转下降装置及具有该装置的晶体生长装置。

背景技术

晶体材料是二十一世纪高科技领域应用中最热门的材料之一。目前针对不同的晶体，通常都有多种生长工艺和方法可供选择，根据生长原理大致可以分为气相法，溶液法，熔体法，外延法等，应用比较广泛和成熟的是熔体生长法，比较典型的熔体生长技术主要包括提拉法(CZ)，泡生法(Ky)，定向凝固法(DS)，区熔法(FZ)，坩埚下降法(VGF)，热交换法(HEM)等，由于晶体提拉法制备结晶时具有可以直接进行测试与观察，便于控制生长条件、晶体生长速度较快、晶体光学均匀性高等优点，所以广泛被运用。

然而，使用现有的装置在制备晶体时，晶体的生长速度慢，所制得的晶体均匀性还有待提升。

实用新型内容

本实用新型技术方案所要解决的技术问题是晶体生长速度慢、均匀性差。

为解决上述技术问题，本实用新型技术方案提供了一种带水冷的旋转下降装置，包括支架、水冷杆、旋转装置、真空加热装置、设于所述支架上的线性导轨、设于所述线性导轨上的线性导轨滑块、设于所述支架上的升降装置及设于所述真空加热装置内的工件，所述水冷杆的一端固定于所述升降装置，另一端伸入所述真空加热装置并支撑所述工件，所述升降装置与所述线性导轨通过所述线性导轨滑块相连，所述升降装置带动所述水冷杆沿所述线性导轨上下滑动，所述旋转装置与所述水冷杆相连，所述水冷杆内设有进水管道，所述水冷杆侧壁设有冷却水出口。

可选的，所述升降装置包括带有丝杆螺母的滚珠丝杆升降机和连接安装板，所述滚珠丝杆升降机设于所述支架上，所述连接安装板连接所述线性导轨滑块与所述丝杆螺母。

可选的，所述水冷杆上设有磁流体，所述磁流体连接所述连接安装板与所述水冷杆。

可选的，所述旋转装置包括旋转电机与旋转传动装置，所述旋转电机通过所述旋转传动装置带动所述水冷杆旋转。

可选的，所述旋转传动装置包括两个带轮与皮带，所述带轮一个设于所述旋转电机的电机轴上，另一个设于所述水冷杆上，所述皮带环绕两个带轮。

可选的，所述水冷杆外套设有用于密封的波纹管。

可选的，所述冷却水出口采用旋转接头。

为解决上述技术问题，本实用新型技术方案还提供了一种晶体生长装置，包括上述的带水冷的旋转下降装置。

与现有技术相比，本实用新型的技术方案具有以下优点：

水冷杆上连接旋转装置，工件随水冷杆下降的同时进行旋转，能够加速晶体生长，同时提高晶体的均匀性；采用波纹管与磁流体对水冷杆进行密封，增加了整个装置的密封性能。

因而，该装置密封性能良好，晶体生长速率高，制备的晶体均匀性较好，结构简单，易于操作，具有较高的应用价值。

附图说明

图1为本实用新型实施例的带水冷的旋转下降装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例的带水冷的旋转下降装置的局部结构示意图。