[实用新型]一种离子植入机及其离子束测量装置有效
| 申请号： | 201721614290.4 | 申请日： | 2017-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN207781531U | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 邸太平;洪纪伦;倪明明;吴宗祐;林宗贤 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/244 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种离子植入机及其离子束测量装置，包括反应腔室；晶圆扫描装置；离子植入机离子束测量装置，所述离子植入机离子束测量装置包括设置于晶圆下方固定距离的第一测量模块，所述晶圆在水平面上的投影落在所述第一测量模块测量面内，所述第一测量模块随所述晶圆扫描的过程中经过离子束所在高度；以及离子束源。本实用新型的离子植入机及其离子束测量装置通过一测量模块，对晶圆扫描区域内的离子束进行直接测量，可大大提高检测的准确性，同时增加离子束取样频率，更好的监测机台状况，利于机台工艺稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束测量 离子植入机 晶圆 第一测量 离子束 本实用新型 机台 工艺稳定性 测量模块 反应腔室 固定距离 机台状况 离子束源 取样频率 扫描区域 扫描装置 直接测量 测量面 投影 扫描 监测 检测 | ||
【主权项】：
1.一种离子植入机离子束测量装置，其特征在于，所述离子植入机离子束测量装置至少包括：设置于晶圆下方固定距离的第一测量模块，所述晶圆在水平面上的投影落在所述第一测量模块测量面内，所述第一测量模块随所述晶圆扫描的过程中经过离子束所在高度。
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