[实用新型]一种提升传送手臂腔中传感器识别率的装置有效
申请号: | 201721576509.6 | 申请日: | 2017-11-22 |
公开(公告)号: | CN207558760U | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 杨旅 | 申请(专利权)人: | 中航(重庆)微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 401331 重庆*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本实用新型提供一种提升传送手臂腔中传感器识别率的装置,所述装置至少包括:反射镜、激光发射器、激光接收器以及光照系统;所述反射镜位于所述传送手臂腔的底部,所述反射镜表面沉积有副产物;所述激光发射器和激光接收器分别设置在所述反射镜上方的两侧;所述光照系统安装在所述传送手臂腔的顶部;当所述传送手臂腔中无晶圆时,所述激光发射器发出的光线,在所述发射镜的反射作用下,由所述激光接收器接收,同时通过所述光照系统补偿所述副产物漫反射引起的光线的损失。本实用新型通过增加光照系统,可以大幅度降低维修保养和报警的频率,提升反射镜使用寿命,节省保养人力。另外,所述光照系统易实现、成本较低,传感器识别的正确率明显提升。 | ||
搜索关键词: | 光照系统 反射镜 手臂 传送 传感器识别 激光发射器 激光接收器 本实用新型 副产物 反射镜表面 反射作用 使用寿命 维修保养 发射镜 漫反射 正确率 晶圆 沉积 保养 报警 | ||
【主权项】:
1.一种提升传送手臂腔中传感器识别率的装置,其特征在于,所述装置至少包括:反射镜、激光发射器、激光接收器以及光照系统;所述反射镜位于所述传送手臂腔的底部,所述反射镜表面沉积有副产物;所述激光发射器和激光接收器分别设置在所述反射镜上方的两侧;所述光照系统安装在所述传送手臂腔的顶部;当所述传送手臂腔中无晶圆时,所述激光发射器发出的光线,在所述发射镜的反射作用下,由所述激光接收器接收,同时通过所述光照系统补偿所述副产物漫反射引起的光线的损失。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造