[实用新型]管式化学气相沉积仪及其炉门装置有效
申请号: | 201721555866.4 | 申请日: | 2017-11-20 |
公开(公告)号: | CN207685342U | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 和江变;邢智龙;于洋;张国文;周聪林 | 申请(专利权)人: | 内蒙古日月太阳能科技有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 阚梓瑄;王卫忠 |
地址: | 010010 内蒙古自治区*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种管式化学气相沉积仪及其炉门装置,炉门装置包括第一位移机构、第二位移机构以及炉门本体。第一位移机构包括第一导引件及第一滑动件。第一导引件固定于炉管且位于管口一侧,且沿垂直于管口所在平面的第一水平方向延伸。第一滑动件滑动设于第一导引件且由第一驱动件驱动。第二位移机构包括第二导引件及第二滑动件。第二导引件固定于第一滑动件,且沿垂直于第一水平方向的第二水平方向延伸。第二滑动件滑动设于第二导引件且由第二驱动件驱动。炉门本体通过炉门支架固定连接于第二滑动件,炉门本体为实心结构。 | ||
搜索关键词: | 导引件 滑动件 位移机构 炉门本体 炉门装置 化学气相沉积 水平方向延伸 驱动件 滑动 管口 垂直 本实用新型 驱动 炉门支架 实心结构 所在平面 管式 炉管 种管 | ||
【主权项】:
1.一种炉门装置,安装于管式化学气相沉积仪的炉管的管口处,其特征在于,所述炉门装置包括:第一位移机构,其包括:第一导引件,固定于所述炉管且位于所述管口的一侧,且沿垂直于所述管口所在平面的第一水平方向延伸;及第一滑动件,滑动设于所述第一导引件且由第一驱动件驱动;第二位移机构,其包括:第二导引件,固定于所述第一滑动件,且沿垂直于第一水平方向的第二水平方向延伸;及第二滑动件,滑动设于所述第二导引件且由第二驱动件驱动;以及炉门本体,通过炉门支架固定连接于所述第二滑动件,所述炉门本体为实心结构;其中,所述炉门装置通过所述第二位移机构控制所述炉门本体在第二水平方向上移动,并通过所述第一位移机构控制所述炉门本体在第一水平方向上移动,从而控制所述炉门本体封闭或开启所述管口。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于内蒙古日月太阳能科技有限责任公司,未经内蒙古日月太阳能科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721555866.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种PECVD氮化硅膜制备装置
- 下一篇:一种蜂窝状载体表面原子层涂层装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的