[实用新型]掩膜版框架有效
| 申请号： | 201721542363.3 | 申请日： | 2017-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN207468710U | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 孙朴;林治明 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 阚梓瑄;王卫忠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种掩膜版框架，其包括依次连接的多条边框，多条边框闭合形成开口。其中，边框底部开设有开槽，开槽的延伸方向与边框的延伸方向相同，且开槽的两端未延伸至边框的两端部。本实用新型提出的掩膜版框架，通过在边框的底部开设开槽的结构设计，在蒸镀过程中，能够改善掩膜版框架的边框中部下垂的问题，保证掩膜版框架各位置与基板之间良好的贴合效果，避免混色问题的产生。同时，由于掩膜版框架的边框部分挖去而形成开槽，使得掩膜版框架的重量减小，有利于满足元件轻量化的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 边框 掩膜版 开槽 延伸 本实用新型 闭合 边框中部 混色问题 贴合效果 依次连接 重量减小 框架本 两端部 轻量化 下垂 基板 蒸镀 开口 保证 | ||
【主权项】：
一种掩膜版框架，其特征在于，所述掩膜版框架包括依次连接的多条边框，多条所述边框闭合形成开口，所述边框底部开设有开槽，所述开槽的延伸方向与所述边框的延伸方向相同，且所述开槽的两端未延伸至所述边框的两端部。
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