[实用新型]一种具有角度定位装置的电子束曝光机校场系统有效

专利信息
申请号: 201721307339.1 申请日: 2017-10-11
公开(公告)号: CN207216274U 公开(公告)日: 2018-04-10
发明(设计)人: 李喜玲;李华;周保范 申请(专利权)人: 兰州大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京中恒高博知识产权代理有限公司11249 代理人: 乔会霞
地址: 730000 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 实用新型公开一种具有角度定位装置的电子束曝光机校场系统,包括样品台主体,样品台主体包括校正区域,其中,校正区域内设置有定位凹槽和棋盘格样品,定位凹槽包括水平设置的第一凹槽以及与第一凹槽成4‑6°夹角的第二凹槽和第三凹槽,且第二凹槽与第一凹槽顺时针方向呈4‑6°,第三凹槽与第一凹槽逆时针方向呈4‑6°,棋盘格样品的底边与其中一个定位凹槽对齐设置,当电镜放大到900倍时,使所述棋盘格样品的整个校准点均落到视野范围内。有角度定位槽的存在,方便了棋盘格样品的摆放,使得棋盘格样品的摆放位置不会太偏,这样在电镜放大到900倍时,整个校准点都能落到视野中,且观察区域内的棋盘格与坐标轴偏角在程序可调控的范围之内,方便工作。
搜索关键词: 一种 具有 角度 定位 装置 电子束 曝光 校场 系统
【主权项】:
一种具有角度定位装置的电子束曝光机校场系统,包括样品台主体,其特征在于,所述样品台主体包括校正区域,其中,所述校正区域内设置有定位凹槽和棋盘格样品,所述定位凹槽包括水平设置的第一凹槽以及与第一凹槽成4‑6°夹角的第二凹槽和第三凹槽,且所述第二凹槽与第一凹槽顺时针方向呈4‑6°,所述第三凹槽与所述第一凹槽逆时针方向呈4‑6°,所述棋盘格样品的底边与其中一个定位凹槽对齐设置,当电镜放大到900倍时,使所述棋盘格样品的整个校准点均落到视野范围内。
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