[实用新型]一种具有角度定位装置的电子束曝光机校场系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及电子束曝光机，尤其涉及一种具有角度定位装置的电子束曝光机校场系统。

背景技术

纳米工艺的研究早已深入科学研究领域。它是制备各种纳米器件的必要条件。只有工艺的进一步提高才能使得制备器件的效率更高、精准度更高，从而提高各个纳米器件的性能，提高相关领域的科学研究水平，广泛应用于相关的电子设备。然而电子束曝光机每次曝光之前，都需要对电子束移动的方向及距离进行校准(比如当我们想让电子束沿着X轴移动800nm时，必须进行校准，告诉电子束X轴在哪里，800nm有多长)，而目前的校准系统使用起来非常不便。具体校准时需要用到棋盘格样品，且在电镜放大到900倍时进行观察，看棋盘格所有用于定位的参考点是否都在所观察的视野内，且观察区域内的棋盘格与坐标轴偏角在程序可调控的范围之内，如果不合适，需要将电镜放气，样品台取出，根据经验大概调整棋盘格样品角度，再放置到扫面电镜中，重新抽真空，重新找到棋盘格，重新聚焦，重新调光阑，重新调像散，重新观察棋盘格的偏角，如此反复才能找到合适的位置进行下一步的校准工作，为校准工作带来了极大的不便，且需耗费大量的时间和精力在校准上，且由于各种原因造成的棋盘格样品松动，那就无形中增加了很多工作量。

实用新型内容

本实用新型就是针对上述问题，提出一种具有角度定位装置的电子束曝光机校场系统，所述角度定位装置的设计可以使电子束曝光校场变得极为简单、方便、快捷，可以极大的提高纳米器件制备的效率。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种具有角度定位装置的电子束曝光机校场系统，包括样品台主体，所述样品台主体包括校正区域，其中，所述校正区域内设置有定位凹槽和棋盘格样品，所述定位凹槽包括水平设置的第一凹槽以及与第一凹槽成4-6°夹角的第二凹槽和第三凹槽，且所述第二凹槽与第一凹槽顺时针方向呈4-6°，所述第三凹槽与所述第一凹槽逆时针方向呈4-6°，所述棋盘格样品的底边与其中一个定位凹槽对齐设置，当电镜放大到900倍时，使所述棋盘格样品的整个校准点均落到视野范围内，且观察区域内的棋盘格与坐标轴偏角在程序可调控的范围之内。

优选地，还包括第四凹槽和第五凹槽，所述第四凹槽与所述第二凹槽顺时针呈4-6°夹角，所述第五凹槽与所述第三凹槽逆时针呈4-6°夹角，且所述第一、二、三、四、五凹槽的右端相连。

优选地，所述样品台主体还包括曝光区域，所述曝光区域设有螺丝孔、压片和待曝光的样品，所述压片压紧待曝光的样品，所述压片通过螺丝孔固定。

优选地，所述曝光区域为三个。

本实用新型有益效果是：(一)有角度定位槽的存在，方便了棋盘格样品的摆放，使得棋盘格样品的摆放位置不会太偏，这样在电镜放大到900倍时，整个校准点都能落到视野中，才能进行下一步的校场工作。

(二)定位槽给摆放棋盘格样品有一个参考，可以方便准确地找到合适的定位角度，且观察区域内的棋盘格与坐标轴偏角在程序可调控的范围之内，否则即使在900倍时校准点都落在视野内，但是偏角较大时，受校准软件的限制，有可能无法较好的完成校准，甚至偏角太大时软件都会报错。

(三)有了定位槽的存在，使得重新放置棋盘格样品工作变得轻而易举。有时装样品时会无意中碰到棋盘格样品引起棋盘格样品松动，或者装好样品时需要用Ar气吹去微尘也容易引起棋盘格样品的松动，或者由于使用时间过长样品台需要清洗也需要把棋盘格样品取下来，等等这些原因都使得我们必须重置棋盘格样品，在定位槽的帮助下，只要记住取下时棋盘格样品的长边对应的是哪个角度定位槽，再次放置时很容易找到原来的位置，实现精准放置棋盘格样品。

(四)避免了电镜反复放气和抽真空的工作，由于以上三条所述的情况下都需要将电镜放气，样品台取出，根据经验大概调整棋盘格样品角度，再放置到扫面电镜中，重新抽真空，重新找到棋盘格样品，重新聚焦，重新调光阑，重新调像散，重新观察棋盘格的校准点是否在视野中，且偏角是否在软件可校准的范围内。如果不合适只能重复以上的步骤重新来一遍，而本实用新型避免了这些繁琐的工作，提高了工作效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型具有角度定位装置的电子束曝光机校场系统一种实施例的结构示意图；

图2是图1的侧视图；