[实用新型]一种在硅圆片上单片集成微型光谱仪结构有效
| 申请号： | 201720926679.6 | 申请日： | 2017-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN207487824U | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 宁文果;郭方敏 | 申请（专利权）人： | 华东师范大学 |
| 主分类号： | G01J3/18 | 分类号： | G01J3/18 |
| 代理公司： | 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 | 代理人： | 徐筱梅;张翔 |
| 地址： | 200241 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种在硅圆片上单片集成微型光谱仪结构，其特点是单硅片上设有色散系统与红外传感器集成和兼容的光学结构，所述光学结构由表面沉积金层的硅柱与表面沉积氧化硅层、氮化硅层、钛层和铝层的传感器凹槽组成；所述金层沉积在硅柱的外表面上；所述传感器凹槽为“V”形槽，其槽壁上设有热隔离层，并在热隔离层上依次沉积氮化硅层和钛层，槽口两侧依次沉积氧化硅层和铝层。本实用新型与现有技术相比具有光线沿硅片平面方向入射，避免了光线垂直入射，工艺简单，结构尺寸小的特点，较好的解决了光学路径受到硅片厚度限制的问题，尤其满足了光谱仪小型化、低成本的应用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱仪 本实用新型 传感器凹槽 表面沉积 光学结构 集成微型 热隔离层 硅圆片 上单片 硅柱 金层 铝层 入射 钛层 沉积氮化硅层 沉积氧化硅层 红外传感器 氮化硅层 光线垂直 光学路径 硅片平面 厚度限制 色散系统 氧化硅层 应用要求 单硅片 低成本 硅片 槽壁 槽口 沉积 兼容 | ||
【主权项】：
一种在硅圆片上单片集成微型光谱仪结构，其特征在于单硅片上设有色散系统与红外传感器集成和兼容的光学结构（1），所述光学结构（1）由表面沉积金层（3）的硅柱（2）与表面沉积氧化硅层（5）、氮化硅层（6）、钛层（7）和铝层（8）的传感器凹槽（4）组成；所述金层（3）沉积在硅柱（2）的外表面上；所述传感器凹槽（4）为“V”形槽，其槽壁上设有热隔离层（9），槽口两侧依次沉积氧化硅层（5）和铝层（8）；所述热隔离层（9）上依次沉积氮化硅层（6）和钛层（7）；所述硅柱（2）和传感器凹槽（4）为刻蚀在单硅片上集成和兼容的光学结构；所述沉积金层（3）的硅柱（2）将硅圆片平面方向进入的入射光，分光后到达传感器凹槽（4）表面沉积的钛层（7）和铝层（8）上进行红外光的探测。
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