[实用新型]一种全自动蚀刻清洗装置有效
申请号: | 201720847266.9 | 申请日: | 2017-07-13 |
公开(公告)号: | CN206877973U | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 马卓;吴成福 | 申请(专利权)人: | 信丰迅捷兴电路科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B08B3/08;B08B3/12;B08B3/02 |
代理公司: | 南昌赣专知识产权代理有限公司36129 | 代理人: | 刘锦霞,张文宣 |
地址: | 341600 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种全自动蚀刻清洗装置,包括机架、蓄电池和载物板,所述机架顶部安装载物板,所述机架底部一侧设有蓄电池,所述载物板上一侧安装有清洗塔一,所述载物板上另一侧安装有水泵,所述水泵和清洗塔一之间设有清洗塔二,所述清洗塔一内顶部设有超声波清洗腔,所述超声波清洗腔内设有超声波发生器,所述清洗塔一内底部设有压力泵一,所述清洗塔一底部设有冲洗喷头一,压力泵一底部连接冲洗喷头一,所述清洗塔二内底部设有压力泵二,所述清洗塔二底部设有冲洗喷头二。该实用新型通过合理设置超声波清洗腔、加热腔、传送带、清洗塔一、清洗塔二等结构,具有了清洗方便、烘干迅速、自动化程度高等优点,设计新颖合理,适合广泛推广。 | ||
搜索关键词: | 一种 全自动 蚀刻 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种全自动蚀刻清洗装置,包括机架(1)、蓄电池(14)和载物板(2),其特征在于,所述机架(1)顶部安装载物板(2),所述机架(1)底部一侧设有蓄电池(14),所述载物板(2)上一侧安装有清洗塔一(7),所述载物板(2)上另一侧安装有水泵(11),所述水泵(11)和清洗塔一(7)之间设有清洗塔二(8),所述清洗塔一(7)内顶部设有超声波清洗腔(9),所述超声波清洗腔(9)内设有超声波发生器(10),所述清洗塔一(7)内底部设有压力泵一(3),所述清洗塔一(7)底部设有冲洗喷头一(4),压力泵一(3)底部连接冲洗喷头一(4),所述清洗塔二(8)内底部设有压力泵二(5),所述清洗塔二(8)底部设有冲洗喷头二(6),压力泵二(5)底部连接冲洗喷头二(6),所述水泵(11)一侧通过水管连接有冲洗喷头三(19),所述载物板(2)下端一侧设有加热腔(13),所述加热腔(13)内设有红外发生器(18),所述加热腔(13)一侧设有热风机(12),所述机架(1)内底部设有蓄水槽(16),所述蓄水槽(16)与载物板(2)之间通过有传送带(17),所述冲洗喷头一(4)、冲洗喷头二(6)、冲洗喷头三(19)、加热腔(13)和热风机(12)位于传送带(17)上端。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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