[实用新型]类金刚石薄膜的沉积设备有效
申请号: | 201720725409.9 | 申请日: | 2017-06-20 |
公开(公告)号: | CN206916216U | 公开(公告)日: | 2018-01-23 |
发明(设计)人: | 阮志明;潘旋;曾德强;廖生;钟俊超;谭安平;张晓柳;阮炯城;聂海天 | 申请(专利权)人: | 深圳市正和忠信股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/503;C23C16/46;C23C16/458 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种类金刚石薄膜的沉积设备,其包括脉冲直流偏压电源系统、恒流离化装置和具有真空腔体的沉积壳体,沉积壳体接地且沉积壳体上设置有抽真空口和进出货炉门,恒流离化装置包括设置于沉积壳体外的离化电源和设置于真空腔体内的两个离化电极,两个离化电极分别与离化电源电连接,沉积壳体上设置有用于放置离子源的第一凸腔,真空腔体内设置有加热管组、气管组、靶材组和用于放置工件的环形的工件转架,脉冲直流偏压电源系统的电源正极接地,电源负极与工件转架连接。本实用新型既可以提高沉积速度,又可以在高光镜面上沉积光泽度高、致密细腻、硬度高、耐磨性能好、颜色均匀的装饰性类金刚石薄膜。 | ||
搜索关键词: | 金刚石 薄膜 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种类金刚石薄膜的沉积设备,其包括脉冲直流偏压电源系统和具有真空腔体的沉积壳体,所述沉积壳体接地且所述沉积壳体上设置有抽真空口和进出货炉门,其特征在于,所述类金刚石薄膜的沉积设备还包括恒流离化装置,所述恒流离化装置包括设置于所述沉积壳体外的离化电源和设置于所述真空腔体内的两个离化电极,两个所述离化电极分别与所述离化电源电连接,所述沉积壳体上设置有用于放置离子源的第一凸腔,所述真空腔体内设置有加热管组、气管组、靶材组和用于放置工件的环形的工件转架,所述脉冲直流偏压电源系统的电源正极接地,所述脉冲直流偏压电源系统的电源负极与所述工件转架连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的